晶体管用溅射靶材料的研究

介绍了S—1240数字程控交换机中晶体管集成电路用金属化磁控溅射膜材料。分析了成膜材料的组成及杂质元素等对集成电路性能的影响。简述了VLSI及ULSI用金属化膜材的发展趋势。