HfO_2-SiO_2混合膜力学性能

利用离子辅助电子束双源共蒸发工艺方法,制备了SiO_2掺杂含量分别为0、13%、20%、30%、40%和100%的六组HfO_2-SiO_2混合膜。采用纳米压痕法测量了不同组分混合膜的杨氏模量和硬度,并研究了混合膜杨氏模量和硬度随SiO_2含量增长的变化规律。结果显示,随着SiO_2含量增加,混合膜杨氏模量和硬度均减小,双组分复合材料并联模型可以较好地拟合杨氏模量随混合膜SiO_2含量变化关系。为了解释混合膜力学性能随SiO_2含量变化规律,对混合膜进行了XRD测试,研究了混合膜微观结构与杨氏模量和硬度的关系,发现结晶对硬度影响显著,对杨氏模量影响较小;用Zygo干涉仪测量了样品的面形,获得了薄膜残余应力随SiO_2含量的变化规律,表明SiO_2掺杂能减小HfO_2薄膜压应力。

Cu(100)表面N_2O单层膜的原子结构

利用第一性原理研究了氧化亚氮(N2O)分子单层膜在Cu(100)表面吸附的原子结构。CASTEP计算表明当覆盖度为0.5ML时,N2O分子单层膜在虚拟Cu(100)表面稳定。当N2O分子自组装单层膜吸附在Cu(100)衬底上时,最稳定的吸附位是顶位,此时吸附高度是1.98?,分子与衬底法线之间的夹角是54度,而分子内部的键角是174度。计算结果与实验数据吻合。