EDA基因在4个少汗型外胚层发育不全家系中的检测及分析

目的对4个少汗型外胚层发育不全家系的EDA基因进行测序分析,研究突变的位置、类型,为临床诊断提供遗传学依据。方法提取先证者及其亲属的基因组DNA,其中患者5人,无症状者12人,另外抽取100名无先天缺牙家族史的正常成人外周血,提取基因组DNA作为对照,设计EDA基因8个外显子的引物,通过聚合酶链反应和DNA测序的方法与正常序列比对。结果 4个家系的患者均存在EDA基因不同位点的突变,分别为c.466C>T、c.663-697缺失、c.587-615缺失、c.878T>G,携带者存在杂合突变,正常对照不存在以上突变。结论 EDA基因的c.466C>T、c.663-697缺失、c.587-615缺失、c.878T>G突变是导致家系先证者及患者出现少汗型外胚层发育不全的病因。其中,EDA基因的c.663-697缺失、c.587-615缺失、c.878T>G是未报道的新突变。

口腔修复临床经验对比色准确性训练的影响

目的：观察口腔修复临床经验在比色准确性训练中的作用。方法：选择具备1～2年口腔修复临床经验的口腔医学生37名（A组）以及无口腔修复临床经验的121腔医学生57名（B组）。每组学生一部分使用TTB训练．其余使用TT训练。训练前首先使用Vita3D-master比色板作为比色工具．随机抽取10个比色板标准色标进行测试。然后对测试对象进行每周1次、连续3周的牙比色训练。每次训练完成后进行比色测试并计算比色准确率。采用SPSSl6．0软件包进行非参数秩和检验，比较每次测试成绩的差异及A组与B组之间每次＋JiI练后测试成绩的差异。结果：临床经验组与无临床经验组训练前比色准确率分别为（65．67＋20．48）％和（70．17＋17．57）％。经过3次训练后．比色准确率分别为（78．91＋22．82）％和（80．17＋17．77）％。2组训练前及每次训练后比色正确率差异无显著性（P〉0．01）。训练后与训练前比较，比色正确率提高，差异有统计学意义。结论：具有1～2年修复临床经验和无临床经验的口腔医学生之间．口腔修复临床经验对比色准确性无明显影响，TT/TTB系统的比色训练均能提高所有受试对象的比色准确性．

下颌第一磨牙面磨耗近中根受力影响的三维有限元分析

目的 :采用三维有限元技术,分析下颌第一磨牙在面水平磨耗与倾斜磨耗2种情况下受力时,其牙体内的应力分布和瞬间位移情况,探讨近中根纵裂发生的生物力学依据。方法:运用Mimics有限元软件建立下颌第一恒磨牙三维有限元模型,分为无磨耗组(对照组)、水平磨耗组(实验组1)和倾斜磨耗组(实验组2)3组,实验组1和实验组2再根据4种磨耗程度,分别建立平切1、平切2、平切3、平切4和斜切5°、斜切10°、斜切15°与斜切20°8种研究模型。经面加载200 N的咬合力,运用MSC.Marc非线性有限元分析软件分析各种状态下模型内的等效应力和瞬间位移,分析牙根纵折发生的生物力学依据。结果:1无磨耗组第一磨牙应力主要集中在面中央窝沟处,位移等值线主要集中在牙冠近中偏颊面,向下延伸至牙颈部。2水平磨耗组应力主要集中于牙冠部及近远中根的根分叉水平,位移等值线整体逐渐偏向面近中偏颊侧牙颈部区域,类似于楔状缺损的V型。3在倾斜磨耗组,当磨耗平面向远中倾斜角度由5°增至15°时,瞬间位移等值线与牙长轴交角变小,近中根所受剪切力最大,产生的应力集中,发生牙根纵裂的可能性增大;当倾斜角度增大至20°时,应力主要集中在牙冠部,其位移等值线呈环形,最大位移出现在牙冠内。提示临床上当牙冠磨耗严重、牙尖斜面明显倾斜时,倾斜牙尖成为应力集中区,易发生折裂。结论:下颌第一磨牙面磨耗面向远中倾斜时,其近中根发生纵裂的可能性较大,为临床上预防性调磨过度磨耗的下颌第一磨牙,降低近中根纵裂的可能性提供了生物力学依据。

脱敏抛光膏治疗活髓牙牙体预备后牙本质敏感的疗效观察

目的探讨脱敏抛光膏对活髓基牙预备后牙本质敏感的临床疗效。方法 43例96颗行冠桥修复的活髓基牙在暂时冠桥及正式冠桥修复前分别用脱敏抛光膏处理,在疼痛游标尺上采用数字化疼痛评判法(VAS),记录处理前后的敏感程度(VAS值),采用SPSS 17.0软件包,对脱敏治疗前后VAS值采用配对t检验进行统计学分析。结果 43例患者(男19例,女24例)96颗活髓基牙,敏感位点分布在唇颊侧占43.37%;应用脱敏抛光膏后72.92%基牙症状即刻完全或部分缓解。暂时冠桥修复前未经脱敏抛光膏处理时的VAS值为(4.43±2.33),脱敏处理后VAS值为(2.23±1.85),处理前后差异有统计学意义(P<0.05)。正式冠桥修复前未经脱敏抛光膏处理的VAS值为(4.16±2.21),经脱敏处理后的VAS值为(1.99±1.83),处理前后差异有统计学意义(P<0.05)。96颗活髓基牙(男47颗,女49颗),暂时冠桥修复前的VAS平均值分别为3.48±2.65和4.16±2.62,差异无统计学意义(P>0.05)。结论活髓基牙预备后唇颊侧最敏感;脱敏抛光膏能够即刻缓解牙体预备后牙本质敏感,值得临床推广;活髓基牙预备后敏感程度与性别无关。