二次Bézier曲线的双圆弧样条插值二分算法

在数控加工领域,通常需要用尽量少段数的圆弧样条来对曲线进行拟合。采用二分查找算法,用G1连续的双圆弧样条对二次Bézier曲线进行拟合。该算法在给定误差范围内所需的圆弧段数较少。最后给出了具体的实例说明。

沉积电流对Co-Pt-P薄膜耐蚀性的影响

采用电沉积技术制备了Co-Pt-P磁性薄膜,着重研究了沉积电流对镀层表面形貌及耐蚀性的影响。实验结果表明:当沉积电流为0.08A时,镀层晶粒连续、致密,自腐蚀电流密度最小,耐蚀性较好;当沉积电流小于0.08A时,镀层晶粒小且不均匀;当沉积电流大于0.08A时,镀层表面应力较大,呈现较多的裂纹。

二次均匀B样条曲线的双圆弧逼近方法

提出了一种用双圆弧对二次均匀B样条曲线的分段逼近方法。首先,对一条具有n+1个控制顶点的二次均匀B样条曲线按照相邻两节点界定的区间分成n-1段只有三个控制顶点的二次均匀B样条曲线段;然后对每一曲线段构造一条双圆弧进行逼近。所构造的双圆弧满足端点及端点切向量条件,即双圆弧的两个端点分别是所逼近的曲线段的端点,而且双圆弧在两个端点处的切向量是所逼近的曲线段在端点处的单位切向量。同时,双圆弧的连接点是双圆弧连接点轨迹圆与其所逼近的曲线段的交点。这些新构造出来的双圆弧连接在一起构成了一条圆弧样条曲线,即二次均匀B样条曲线的逼近曲线。另外给出了逼近误差分析和实例说明。

稀土镧对Co-Mo-P薄膜耐蚀性的影响

采用电化学沉积技术制备Co-Mo-P磁性薄膜。着重研究了稀土镧(La)对薄膜在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性的影响。结果表明:在沉积过程中,向镀液中添加La(NO3)3,可改善Co-Mo-P薄膜的耐蚀性。在Co-Mo-P薄膜中引入La元素,能促进腐蚀过程的阴极极化,导致自腐蚀电位负移,自腐蚀电流密度减小,也有助于密实薄膜结构和细化晶粒。

垂直磁场对Co-Mo-P薄膜耐蚀性的影响

采用外加垂直磁场的电化学技术制备Co-Mo-P薄膜。研究了垂直磁场强度对薄膜在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性的影响。结果表明:随着垂直磁场强度从0.1T增大到0.5T,薄膜在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的自腐蚀电位正移,自腐蚀电流密度减小;此外,施加垂直磁场有助于薄膜中Co和Mo的沉积,薄膜表面的晶粒细化,结构密实,耐蚀性得到改善。

磁场对Co-Pt-P薄膜结构及耐蚀性的影响

采用外加垂直磁场的电化学沉积方法制备了Co-Pt-P薄膜。对薄膜的结构及成分进行了分析,并借助电化学检测技术研究了薄膜在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的耐蚀性。结果表明:随着磁场强度的增大,Co-Pt-P薄膜表面的晶粒逐渐细化,ε-Co的质量分数增加;薄膜在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的自腐蚀电位逐渐正移,电极/溶液界面的双电层电容Cd降低,表面沉积膜电阻Rf和电荷传递电阻Rt增大,自腐蚀电流密度逐渐减小,耐蚀性增强。