玻璃及不锈钢衬底N型微晶硅薄膜的制备

利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以PH3为掺杂剂,在浮法玻璃衬底和不锈钢衬底上制备了纳米级的n型微晶硅薄膜。采用Wvase32型椭圆偏振光谱仪、Reinishaw2000型拉曼(Raman)光谱仪和高阻仪对薄膜进行测试,以研究沉积条件对薄膜沉积速率、晶化率和暗电导特性的影响,并对沉积功率和沉积气压进行双因素优化,绘制了双因素相图。

光的传播与相互作用

通过对比光在相同尺寸不同材料上的衍射图样，发现光的衍射图样除了与孔的线度有关外，还与材料等其他因素有关，说明光的传播与物质的相互作用的关系，并预言X射线衍射的新现象。