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液相外延碲镉汞中砷离子注入与激活表征研究
1
作者
卢致超
林春
+2 位作者
王溪
李珣
孙权志
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023年第4期568-572,共5页
As在HgCdTe材料中具有较小的扩散系数,可以形成较为稳定的结构,广泛应用于HgCdTe的p型掺杂。在p-on-n型碲镉汞红外探测器的制备中As掺杂是重要的制备方法。针对在制备过程中存在无法精确测量As激活率的问题,提出采用低温弱p型退火辅助...
As在HgCdTe材料中具有较小的扩散系数,可以形成较为稳定的结构,广泛应用于HgCdTe的p型掺杂。在p-on-n型碲镉汞红外探测器的制备中As掺杂是重要的制备方法。针对在制备过程中存在无法精确测量As激活率的问题,提出采用低温弱p型退火辅助差分霍尔测试的方法,获得了载流子浓度分布,从而通过与SIMS测试结果对比得到长、中波液相外延HgCdTe样品中As的激活率,并分析了退火等工艺对As掺杂后激活率的影响。
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关键词
液相外延
碲镉汞
As离子注入
激活率
弱p型退火
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职称材料
题名
液相外延碲镉汞中砷离子注入与激活表征研究
1
作者
卢致超
林春
王溪
李珣
孙权志
机构
中国科学院上海技术物理研究所红外成像材料与器件重点实验室
上海科技大学信息科学与技术学院
出处
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023年第4期568-572,共5页
文摘
As在HgCdTe材料中具有较小的扩散系数,可以形成较为稳定的结构,广泛应用于HgCdTe的p型掺杂。在p-on-n型碲镉汞红外探测器的制备中As掺杂是重要的制备方法。针对在制备过程中存在无法精确测量As激活率的问题,提出采用低温弱p型退火辅助差分霍尔测试的方法,获得了载流子浓度分布,从而通过与SIMS测试结果对比得到长、中波液相外延HgCdTe样品中As的激活率,并分析了退火等工艺对As掺杂后激活率的影响。
关键词
液相外延
碲镉汞
As离子注入
激活率
弱p型退火
Keywords
LPE
Hg1-xCdxTe
As ion implantation
activation rate
weak p-type annealing
分类号
TN213 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
液相外延碲镉汞中砷离子注入与激活表征研究
卢致超
林春
王溪
李珣
孙权志
《半导体光电》
CAS
北大核心
2023
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