一种基于卷积核用于光刻模拟的计算稀疏空间点光强的方法(英文)

光学邻近校正 (OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果 .基于 Gabor的“降解为主波”方法 ,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似 ,并用高斯过滤器来模拟光刻胶横向扩散和一些掩模工艺效应 ,由此提出了一种基于卷积核的精确、快速地用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法 .这种模型的简单性从本质上给计算和分析带来了好处 .

华北平原地区宅基地不合理利用的成因及对策分析

长期以来,华北平原地区农村宅基地利用存在诸多不合理现象,虽经多次治理,始终没有明显效果。选取较有代表性的涿州市为研究对象,通过对案例、数据的分析,从理论与实证的角度,阐明了宅基地不合理利用的深层原因并提出相应的对策。

华北平原地区农民参与新民居建设意愿的因素分析——以河北省新民居示范工程(义和庄项目)为例

试点开展农村新民居建设,盘活农村建设用地,是缓解华北地区城市扩张对农用地压力的有效途径。选取较有代表性的河北省涿州市义和庄新民居示范工程为研究对象,主要从农民的角度,研究新民居建设的影响因素,建立农民参与新民居建设影响因素的Logistic模型,找出农民参与新民居建设意愿的主观及客观因素,并提出相应对策建议。

对我国农村宅基地使用权流转制度的反思与重构

目前,《土地管理法》修订工作已经全面展开,农村宅基地使用权流转问题成为各方关注的焦点,随着我国城市化、市场化进程的深入发展,现行的有关限制流转的规定已不能适应新的形势,必须正视这个问题,积极探索行之有效的解决办法。

河北省平原地区农村宅基地不合理利用的成因分析——基于河北省涿州市的调查研究

基于河北省平原地区宅基地不合理利用的现状,选取涿州市为研究对象,通过对案例、数据的分析,从理论与实证的角度,阐明了宅基地不合理利用的现状及成因,提出了解决问题的对策。

集成电路版图中的多边形匹配比较研究

光学邻近校正是最重要的分辨率增强技术,而对光学邻近校正后的版图修正逐渐成为提高集成电路版图质量的必需步骤。提出了一种用于post-OPC版图(做过OPC的版图)修正的多边形匹配比较的线性算法。算法通过比较pre-OPC和post-OPC的版图,提取OPC校正时的分段信息和段偏移量,使得post-OPC版图的修正能够充分利用前次OPC的结果,避免了重做OPC,提高了OPC验证后修正的效率。

以学科建设和科研教学为重点 促进农学院特色化发展

农学院是河北农业大学的支柱学院之一,在学科建设、科研、教学及学生工作等方面具有举足轻重的地位,近年来,农学院通过凝练学科方向和内涵积淀了学科实力;争取到一大批重点项目,迅速提升了科研能力;重视教育教学塑造高水平师资;突出学生工作,提高人才培养质量等一系列措施,全面促进了学院的发展,取得了骄人的成果,走出了一条特色鲜明的发展道路。

一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法

在一种新颖的快速光刻模拟算法的基础上 ,提出了一种新的基于稀疏空间点光强计算的二维成像轮廓提取算法 .该算法能够根据版图特点合理选择采样线的位置 ,有效地确定轮廓线存在的范围 ,并根据在采样线上光强单调分布的特性来快速地搜寻轮廓点 .实验表明 ,这是一种快速高效的轮廓提取方案 ,能够适应光学邻近校正中巨大的运算量 .

一种基于SPLAT的离轴照明成像算法的研究与实现

如何提高光刻的分辨率已成为超深亚微米集成电路设计和制造的关键技术。文章简要介绍了分辨率提高技术之一的离轴照明的原理及其构造形式,介绍了部分相干的二维透射系统的仿真程序SPLAT的特点,并用SPLAT实现了一种新的照明结构,为实际开发光学邻近校正(OPC,OpticalProximityCorrection)仿真工具增加了新的功能。

一种适于快速OPC的精确光刻胶剖面仿真算法

光刻仿真工具是描述实际工艺的有效工具。利用光刻仿真工具 ,能够准确地描述由掩模制造工艺、光刻胶曝光、显影、蚀刻所引起的光学邻近效应和畸变所导致的关键尺寸的变化。利用了改进的空间图像仿真及可变光强阈值模型来获得准确的硅片图形。改进的空间图像的基本思想是 ,用空间图像与一个高斯滤波器进行卷积 ,从而使图像较原来变得模糊 ,以此来模拟光刻胶的实际扩散效应。描述了一种适用于快速光学邻近校正 ( OPC)

基于模型的光学校正系统的设计与实现

为了使光刻结果更好地符合版图设计,保证在硅片上制造出的电路在功能上与设计电路一致,提出了一种对掩模进行自动补偿的系统性技术.根据光刻机和光刻胶特性,模拟了实际的光刻过程.校正处理的核心是基于模型的掩模图形优化模块,通过调用光刻模拟器直接对输入待校正的掩模图形进行优化.最后通过对掩模版图的验证,保证校正后的掩模图形满足成像图形的精度要求.应用实例证明,该系统准确实现了版图的精确设计与校正.

面向系统芯片的可测性设计

随着集成电路的规模不断增大 ,芯片的可测性设计正变得越来越重要。回顾了一些常用的可测性设计技术 ,分别讨论了系统芯片 ( SOC)

小麦和水稻auxin基因家族的生物信息学比较分析

根据测序获得的1条260 bp cDNA片段,通过预测发现其包含小麦植物生长素(AUXIN)基因的部分编码序列,通过电子延伸、设计引物,从小麦Mardler/7*百农3217的cDNA中扩增获得一条608 bp的cDNA片段,该基因序列数据库(GenBank)登录号为AY902381(基因)和(蛋白)。编码202个氨基酸,预计蛋白的分子量为23.0 kDa,等电点为9.93。利用已经分离的小麦生长素(AUXIN)基因的保守序列为检索序列,对小麦和水稻中的AUXIN基因家族成员进行分析,利用这些基因编码蛋白序列构建系统发生树,查找在GenBank的EST数据库中查找这些基因的ESTs表达序列,分析了这些基因在细胞中的定位情况和蛋白结构的相似性,根据已知相似基因的功能,分析该基因有进一步深入研究的必要。

亚100纳米级标准单元的可制造性设计

本文介绍了亚 10 0纳米工艺可制造性验证的一组工艺仿真和错误定位技术 ,制定了标准单元可制造性设计 (DFM ,DesignForManufacturability)的流程 ,重点讨论了在亚 10 0纳米工艺条件下标准单元设计中遇到的一些典型可制造性问题 ,提出了相应的新设计规则和解决方案 .依靠以上DFM技术方法 ,完成了实际 90nm工艺标准单元可制造性设计工作 .

农业技术“示范辐射”推广模式的探索——以河北省粮食丰产科技工程为例

首先,以河北省粮食丰产科技工程课题为依托,介绍了河北省粮食丰产工程课题和农业技术示范推广模式的内涵,构建了农业技术示范辐射推广模式,指出农业技术示范辐射模式包括辐射中心、一级辐射点和二级辐射点3级体系。其次,探讨了农业技术示范辐射推广模式管理体制及运行机制,具体表现在:成立各示范县(市)领导小组,实行部领导包片责任制;建立专家顾问指导组,成立课题核心专家组;成立课题技术专家组;成立辐射区工作领导小组;实行首席专家负责制和技术人员矩阵式责任制;建立以"试区-专家双向选择"为核心内容的"开放、流动、竞争和协作"的运行机制。最后,提出建立农村科技示范基地、加强与企业的合作、进行灵活多样的技术培训等完善农业技术示范辐射模式的对策,以期通过此研究推动农业高新技术的传播,提高农业技术贡献率,为探索新时期的农业技术推广模式提供思路。

异步电路的设计方法及其应用

由于异步电路不仅具有高性能、低功耗、模块性等优势,而且有望解决微系统芯片中存在的模块互联难题,并被越来越多地应用于芯片的设计中,因而近年来引起了人们的高度重视。文章对研究较多的Huffman电路、延时无关电路、速度无关电路以及定时电路等的设计风格及其工具进行了对比分析,并提出了异步电路的发展趋势及其应用领域。

一种用于标准单元版图交替移相掩模相位兼容性规则检查的工具

介绍了一套基于相位冲突图的生成和处理的新方法 ,可以准确、全面地对由传统方法设计的标准单元版图(暗场 )进行检查 .基于此方法的软件工具能够检查标准单元版图 ,找出不符合交替移相掩模设计要求的图形 ,并给出相关的修改建议 .

基于光刻模型的动态自适应切分OPC

光学邻近校正（OPC）技术已经成为纳米级半导体工艺技术中的一个关键.目前在OPC中多边形的切分算法均基于配方（recipe）,但随着特征线宽减小及版图越来越复杂,用于切分的配方难以覆盖所有的情况;不完备的配方引发或加剧了芯片上的纹波、断线和桥连等现象.论文提出了一种新的基于光刻模型的动态自适应切分算法,根据不同的光刻模型和几何环境可以给出不同的切分,并且可在校正循环中动态改变切分方式和采样点的放置位置.通过90nm工艺下版图设计的验证,这种切分不仅减少了被切分出的小线段（segment）数量的10%-15%,节省了调试切分规则的时间,而且提高了OPC的质量,使PRV（post RET verification）错误率降低了35%.

携带NDM-1阴沟肠杆菌尿路感染株临床特点回顾性报告

目的对2012年7月分离自住院患者尿液标本携带NDM-1阴沟肠杆菌的临床特点、检测过程进行回顾性分析,探讨其耐药特征及产生机制,对控制"超级细菌"的流行提出意见。方法依照CLSI标准,采用K-B法和MIC法检测耐药性,改良Hodge试验和金属酶试验检测产酶类型,聚合酶链反应(PCR)检测耐药基因并进行测序。结果此株阴沟肠杆菌对亚胺培南和美罗培南等15种7个类别抗生素均显示耐药,改良Hodge试验阳性,金属酶表型初筛试验阳性,经基因扩增并测序后,与Genebank比对,表明与NDM-1基因有99%的相似性,并经河北省CDC确证报告该菌株为携带NDM-1阴沟肠杆菌。结论该尿路感染携带NDM-1基因金属酶的阴沟肠杆菌株,其产生可能与患者年老体差、恶性肿瘤伴长时滞留尿管并长时多次应用过多种抗生素有关,因此特别强调严格侵入性导尿及滞留时限指征、规范抗生素使用,做好重点消毒、隔离,控制多重耐药株发生。

用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型

提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(criticaldimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(opticalproximitycorrection,OPC)仿真工具.