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等电子杂质Sb对InP中缺陷的影响
1
作者
叶式中
杨保华
徐岭
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第4期253-257,共5页
用光致发光和正电子湮没技术研究了掺Sb InP单晶的“本征缺陷”。发现元素Sb的掺入导致磷空位(V_p)或者是V_p与杂质络合物的光致发光峰消失。用正电子湮没技术的测量也表明掺Sb的InP晶体中单空位浓度有所降低,两种方法测量的结果对应得...
用光致发光和正电子湮没技术研究了掺Sb InP单晶的“本征缺陷”。发现元素Sb的掺入导致磷空位(V_p)或者是V_p与杂质络合物的光致发光峰消失。用正电子湮没技术的测量也表明掺Sb的InP晶体中单空位浓度有所降低,两种方法测量的结果对应得很好。我们认为InP中掺Sb能有效地降低晶体中的本征缺陷。
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关键词
INP
SB
电子杂质
缺陷
正电子湮没
下载PDF
职称材料
半导体材料的新发展
2
作者
林兰英
叶式中
《半导体情报》
1992年第6期1-5,共5页
近来,半导体科学主要的发展方向是制作高完整性和大面积杂质均匀的衬底材料和超薄外廷材料,并研究它们的特殊性能。本文主要对半导体材料的发展作一简单评述。
关键词
半导体
材料
工艺
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职称材料
题名
等电子杂质Sb对InP中缺陷的影响
1
作者
叶式中
杨保华
徐岭
机构
中国科学院半导体研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第4期253-257,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
用光致发光和正电子湮没技术研究了掺Sb InP单晶的“本征缺陷”。发现元素Sb的掺入导致磷空位(V_p)或者是V_p与杂质络合物的光致发光峰消失。用正电子湮没技术的测量也表明掺Sb的InP晶体中单空位浓度有所降低,两种方法测量的结果对应得很好。我们认为InP中掺Sb能有效地降低晶体中的本征缺陷。
关键词
INP
SB
电子杂质
缺陷
正电子湮没
Keywords
Positron annihilation
Native defect
isoelectronic impurity
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
半导体材料的新发展
2
作者
林兰英
叶式中
机构
中国科学院半导体研究所
出处
《半导体情报》
1992年第6期1-5,共5页
文摘
近来,半导体科学主要的发展方向是制作高完整性和大面积杂质均匀的衬底材料和超薄外廷材料,并研究它们的特殊性能。本文主要对半导体材料的发展作一简单评述。
关键词
半导体
材料
工艺
Keywords
Semiconductor materials: Semiconductor technology
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等电子杂质Sb对InP中缺陷的影响
叶式中
杨保华
徐岭
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990
0
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职称材料
2
半导体材料的新发展
林兰英
叶式中
《半导体情报》
1992
0
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职称材料
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参考文献
引证文献
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