1
|
氮化硅膜层对侧视角白画面色偏的影响及发红改善 |
叶成枝
操彬彬
吕艳明
马力
安晖
彭俊林
冯耀耀
杨增乾
栗芳芳
陆相晚
李恒滨
|
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
|
2022 |
0 |
|
2
|
ITO退火工艺对HADS型TFT-LCD透过率的影响 |
安晖
操彬彬
栗芳芳
叶成枝
杨增乾
彭俊林
刘增利
吕艳明
陆相晚
张敏
陈婷婷
金珍
向康
金镇满
李恒滨
|
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
|
2019 |
2
|
|
3
|
基于以顶层ITO为像素电极设计的产品工艺优化 |
吕艳明
操彬彬
栗芳芳
安晖
叶成枝
李法杰
杨增乾
彭俊林
冯耀耀
刘增利
陆相晚
李恒滨
|
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
|
2020 |
0 |
|
4
|
氮化硅膜层对TFT白点色度均匀性的影响及其改善 |
操彬彬
叶成枝
安晖
马力
刘广东
吕艳明
彭俊林
杨增乾
栗芳芳
陆相晚
黄正峰
刘增利
廖伟经
李恒滨
|
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
|
2019 |
0 |
|