X射线照相法测量超细金属丝直径

本文基于X射线照相技术与数字图像处理方法,实现了对超细金属丝直径的测量。与扫描电镜测量结果对比分析表明,该方法对超细金属丝直径的测量具有较高的置信度,测量不确定度分析表明,其合成测量不确定度在0.27μm左右。

正弦调制薄膜的表征及测量误差分析

本文介绍调制薄膜的表征及测量误差分析,主要包括调制薄膜表面形貌的观测、振幅与波长的精确测量及测量误差分析两个部分。实验结果表明,利用本文所述方法可满足对调制膜的精确测量。

照明方式对微型圆柱直径测量的影响

在靶参数检验过程中,发现应用测量显微镜测量黑腔、芯轴等圆柱形零件的直径时,其测量值始终偏小。因此,本文通过理论分析和实验验证,明确了问题产生的原因,即不平行光照明造成底光照明模式下圆柱直径测量值偏小,提出了采用平行光照明方式解决该问题的技术方案,并开展了相应的测试验证。结果表明,本文所建议的测量方案使微型圆柱直径测量误差大为降低,其测量误差约1μm。

应用白光共焦光谱测量金属薄膜厚度

为了精确测量自支撑金属薄膜厚度及其厚度分布,提出了基于白光共焦光谱传感器的金属薄膜厚度测量技术。介绍了该技术的测量原理及系统结构,研究了系统的测量不确定度。利用相向对顶安装的白光共焦传感器组、精密位移平台并结合自制的薄膜厚度校准样品,实现了对厚度为10~100μm的自支撑金属薄膜的厚度及厚度分布的精确测量;通过研究系统的传感器测量不确定度、薄膜厚度校准样品不确定度、上下传感器安装误差及系统重复性测量误差,获得了系统的测量不确定度数据。试验结果表明,该系统的测量不确定度在0.12μm左右,基本满足惯性约束聚变（ICF）靶参数测量所需的稳定性好、测量精度高、非破坏性测量等要求。

Al/Cu薄膜真空扩散连接技术

针对惯性约束聚变(ICF)物理实验要求,提出并采用真空扩散连接技术,在高温环境下对Al/Cu薄膜进行连接研究。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)仪以及台阶仪等方法对连接样品基体组织和表面质量进行分析。结果表明:铝铜薄膜通过界面原子间的范德华力、冶金结合以及界面反应实现无胶连接。

微焦点源X射线相衬成像技术

相衬成像方法利用硬X射线对低密度弱吸收物质成像,可获得高衬度图像。用菲涅尔衍射理论分析了X射线图像的形成机理。在频域中根据光学传递函数,对物像距离、样品空间频率等对图像相位衬度的影响进行了分析。分辨率和衬度是决定图像可见度的两个依据,分辨率主要依赖于光源的空间相干性,空间相干性又决定于源点尺寸,而时间相干性(单色性)是一个不重要的影响因子。利用多色微焦点源实现了X射线相衬成像技术,获得了有价值的相衬图像,如低原子序数低密度泡沫材料的硬X射线相衬图像,与吸收衬度成像相比,其图像质量得到了很大提高,能观察到泡沫材料的细微结构,分辨率可达μm量级。

Al/Cu阻抗匹配状态方程测试靶制备工艺研究

采用轧制技术和真空扩散连接技术,成功实现了Al/Cu阻抗匹配状态方程测试靶的制备,通过原子力显微镜(AFM)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、台阶仪等测试方法,对样品结构及表面质量进行分析。结果表明:通过轧制技术制备的金属薄膜表面质量较好,表面粗糙度小于25 nm;扩散连接铝铜薄膜界面结合良好,为连续连接,扩散界面控制在150 nm以内。

聚合物泡沫结构及密度分布的相衬CT表征技术

阐述了利用X射线相衬成像技术研究高分子有机泡沫材料微观结构的原理及方法,理论分析及实验结果表明,X射线相衬成像方法可以在相当大的程度上提高低Z聚合物泡沫材料的成像衬度。将相衬成像技术与计算机层析成像技术相结合,获得了泡沫样品的3维骨架结构分布,同时,提出利用统计切片骨架"粒子"质心分布的方法来表征其密度分布均匀性。结果说明,该方法能够在微观层次上实现对泡沫样品3维密度分布的完备表征。

用Micro-CT测量ICFT型源靶柱腔诊断孔轴线与靶杆夹角的研究

用微CT测量ICF(惯性约束聚变)T型源靶柱腔诊断孔轴线与靶杆夹角(下文以θ代替)可以有效的排除柱腔外壁所镀金层厚度的不均匀对测量结果的影响。将微CT测量的两种方法与金层厚度均匀条件下用显微镜测量的结果进行比较,得出划定诊断孔上下边界点找中心的微CT测量方法具有更高的可信度。

基于模板自适应细胞神经网络的图像处理及识别

本文介绍了一种适合于并行计算机的模型——细胞神经网络，它是神经网络的一种特殊形式，具有神经网络的识别、智能和联想能力．具体介绍了利用细胞神经网络（ＣＮＮ）实现二值图像和灰度图像边缘检测，详细分析了ＣＮＮ设计过程并作改进，引入了模板权值自适应的ＣＮＮ及其设计方法，并给出了仿真结果．

靶参数测量技术

研制了适用于泡沫材料测量的透射式低能（能量低于3keV）X射线机，由于X射线能量很低，设计采用开放系统，并在较高真空下工作，既避免了铍窗及空气吸收造成X射线强度损失与降低照相背景反差，又可以保证电子束发射系统可正常工作，灯丝不致被氧化减少使用寿命。由于靶膜可以方便更换，因此，也可以使用较高原子序数金属材料靶膜，提高X射线能量，拓展设备使用范围。经过实验研究，使用6mm厚铝膜作靶材，获得了清晰的输运靶泡沫柱X光图像，表明设备可用于神光实验制靶任务常规测量。

状态方程靶制备技术研究

随着状态方程物理实验的深入，对靶的制备精度和要求不断提高，采用原有的工艺制备的EOS靶已经不能满足物理实验的要求。考虑现有设备情况，采用轧机轧制法制备金属薄膜，精密切削加工楔形靶，真空扩散连接法制备Al-Cu阻抗匹配靶。

靶参数测量技术

利用微焦点X射线荧光谱仪进行了充氩靶丸X射线荧光激发测量实验。由于设备具有X射线聚焦功能，对样品局部辐照强度大，激发效率高，因此测量灵敏度及检测极限也大大提高，尽管由于塑料微球保气性能差，球内只有微量的氩气，仍然获得了氩气明显存在的证据，在测量得到的谱图中扣除本底后氩Ka射线峰非常明显。

用于测量ICF靶丸内氚活度的电离室的设计

设计了一种可测量ICF靶内氚含量的圆柱电离室。密封部件的设计抛弃了传统的橡胶密封而采用全金属密封,以消除橡胶、塑料对氚的强吸附性产生的电离室污染。为防止氚扩散污染电离室的内壁,内壁镀上一层2μm的Au膜。在中心电极和外电极间引入保护电极以降低低水平放射性测量时的电极漏电流。保护电极和中心电极间的绝缘材料,以及保护电极和外电极间的绝缘材料分别选择绝缘性好、耐高温的蓝宝石和Al2O3陶瓷。另外,基于对ICF靶参数测量的特殊要求,在电离室中设计了一个压碎靶丸释放氚的装置。最后,通过物理建模和复合损失计算,得到了优化的电离室参数。

关于对精细化工装置设计特点研究

随着我国的经济的发展,精细化工得到了巨大的发展,精细化工装置的设计也成为了促进精细化工产业发展的关键点,因此有关部门必须加强这一方面探究,以此促进我国在这一重要的行业可以取得更加卓越的成绩.