ITO作填料的涂层光谱特性研究

用高温烧结的ＩＴＯ（ 掺ＳｎＯ２ 的Ｉｎ２Ｏ３） 晶体粉末为填料制备涂层，对其光谱特性进行研究。分析结果表明：这种涂层的光谱特性随着填料ＩＴＯ 中ＳｎＯ２ 掺杂浓度的改变而改变；控制Ｓｎ Ｏ２ 的掺杂浓度可以获得满足要求的ＩＴＯ 晶体，以其为填料的涂层呈现出黄色调，且在近红外（０ ．８ ～２ ．５μｍ） 具有较低的反射率，同时在远红外（８ ～１４μｍ ） 具有较低的发射率。最后对涂层的光谱特性给出了理论上的解释。

ITO涂料在8～14μm波段红外发射率的研究

从氧化锡的掺杂含量、粘合剂的选择和粘合剂的用量三方面对以掺锡氧化铟（ＩＴＯ）掺锡氧化铟半导体为颜料的涂料在８～１４μｍ波段红外发射率进行了研究。氧化锡的掺杂摩尔百分含量在５％时发射率最低；在几种粘合剂中，以ＫＲＡＴＯＮ树脂为粘合剂时发射率最低；以酚醛树脂为粘合剂，随粘合剂用量增加，涂层发射率升高，当ＩＴＯ质量百分数大于２５％时，发射率不再降低。