共晶铝硅合金恒流微弧氧化成膜工艺优化

采用恒流氧化模式对二元共晶Al-Si合金进行微弧氧化(MAO)处理。在碱性电解液体系中,以Na_(2)SiO_(3)和C6H12N4(六次甲基四胺)质量浓度、电流密度、脉冲频率和占空比为优化对象,以膜层的耐腐蚀性能、生长速率及成膜的单位能耗同时作为评价指标,通过正交试验得到以下最优成膜工艺:电解液由12 g/L Na_(2)SiO_(3)、2 g/L NaOH和5 g/LC_(6)H_(12)N_(4)组成,正、负向电流密度分别为10 A/dm^(2)和4 A/dm^(2),脉冲频率400 Hz、占空比25%,单个周期的正负脉冲数之比为1。该工艺显著降低了Si相对共晶铝硅合金上MAO的不利影响。

离子磁控溅射方式对不同表面性质材料扫描电子显微镜(SEM)图像的影响

旨在探讨离子磁控溅射仪的条件参数对不同表面性质非导电材料扫描电子显微镜(SEM)图像的影响,研究溅射靶材、溅射时间和溅射次数等不同离子磁控溅射条件的优缺点和使用范围。结果表明:黄金靶材连续性好,金晶粒成核性大,溅射动能较大,易造成样品表面热损耗,金晶粒贴附在样品表面,故黄金靶材适合低倍率SEM图像观察(<10000)以及样品表面具有一定硬度的材料;铂金靶材连续性差,铂晶粒成核小,溅射动能较小,易嵌入样品表面形成形貌骨架支撑,适合高倍率SEM图像观察(>30000)以及大部分非导电材料;采用少时多次离子磁控溅射方法,适当减少溅射次数不仅可以削弱金膜对材料形貌和结构的影响,而且还可以节约资源保护环境。该结果为科研工作者科学、真实地分析样品的SEM图像提供了试验指导意见。