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气相闪蒸纳米硫化铅的表征及其短波红外探测的应用
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作者 俊杰 陈湘伟 +4 位作者 陈凤金 司阿利 黄战利 张庆军 万海林 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第z1期19-,共1页
用气相闪蒸法制备了纳米PbS薄膜.通过在Ar气氛下闪蒸PbS粉末,实现了纳米级PbS颗粒淀积,PbS纳米颗粒大小可以通过改变Ar气压来控制,所得颗粒直径在5~20 nm之间.透射率谱清晰表明纳米PbS薄膜的吸收带边随纳米颗粒直径减小而兰移.PbS纳米... 用气相闪蒸法制备了纳米PbS薄膜.通过在Ar气氛下闪蒸PbS粉末,实现了纳米级PbS颗粒淀积,PbS纳米颗粒大小可以通过改变Ar气压来控制,所得颗粒直径在5~20 nm之间.透射率谱清晰表明纳米PbS薄膜的吸收带边随纳米颗粒直径减小而兰移.PbS纳米颗粒的x射线衍射结果和透射电镜形貌观测结果相一致.分析了纳米PbS颗粒的尺寸分布,探讨了将此类纳米PbS薄膜应用于短波红外探测的可能性. 展开更多
关键词 PBS 纳米颗粒 短波红外探测器 气相蒸发 闪蒸
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APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺 被引量:2
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作者 闫凯 司阿利 《航空兵器》 2008年第2期35-38,共4页
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
关键词 离子镀膜 薄膜工艺 等离子源辅助沉积 工艺参数
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