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气相闪蒸纳米硫化铅的表征及其短波红外探测的应用
1
作者
司
俊杰
陈湘伟
+4 位作者
陈凤金
司阿利
黄战利
张庆军
万海林
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2007年第z1期19-,共1页
用气相闪蒸法制备了纳米PbS薄膜.通过在Ar气氛下闪蒸PbS粉末,实现了纳米级PbS颗粒淀积,PbS纳米颗粒大小可以通过改变Ar气压来控制,所得颗粒直径在5~20 nm之间.透射率谱清晰表明纳米PbS薄膜的吸收带边随纳米颗粒直径减小而兰移.PbS纳米...
用气相闪蒸法制备了纳米PbS薄膜.通过在Ar气氛下闪蒸PbS粉末,实现了纳米级PbS颗粒淀积,PbS纳米颗粒大小可以通过改变Ar气压来控制,所得颗粒直径在5~20 nm之间.透射率谱清晰表明纳米PbS薄膜的吸收带边随纳米颗粒直径减小而兰移.PbS纳米颗粒的x射线衍射结果和透射电镜形貌观测结果相一致.分析了纳米PbS颗粒的尺寸分布,探讨了将此类纳米PbS薄膜应用于短波红外探测的可能性.
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关键词
PBS
纳米颗粒
短波红外探测器
气相蒸发
闪蒸
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职称材料
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
被引量:
2
2
作者
闫凯
司阿利
《航空兵器》
2008年第2期35-38,共4页
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
关键词
离子镀膜
薄膜工艺
等离子源辅助沉积
工艺参数
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职称材料
题名
气相闪蒸纳米硫化铅的表征及其短波红外探测的应用
1
作者
司
俊杰
陈湘伟
陈凤金
司阿利
黄战利
张庆军
万海林
机构
中国空空导弹研究院光电器件研究所
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2007年第z1期19-,共1页
文摘
用气相闪蒸法制备了纳米PbS薄膜.通过在Ar气氛下闪蒸PbS粉末,实现了纳米级PbS颗粒淀积,PbS纳米颗粒大小可以通过改变Ar气压来控制,所得颗粒直径在5~20 nm之间.透射率谱清晰表明纳米PbS薄膜的吸收带边随纳米颗粒直径减小而兰移.PbS纳米颗粒的x射线衍射结果和透射电镜形貌观测结果相一致.分析了纳米PbS颗粒的尺寸分布,探讨了将此类纳米PbS薄膜应用于短波红外探测的可能性.
关键词
PBS
纳米颗粒
短波红外探测器
气相蒸发
闪蒸
分类号
TN21 [电子电信—物理电子学]
TN24 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
被引量:
2
2
作者
闫凯
司阿利
机构
中国空空导弹研究院
出处
《航空兵器》
2008年第2期35-38,共4页
文摘
阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。
关键词
离子镀膜
薄膜工艺
等离子源辅助沉积
工艺参数
Keywords
ion film plating
thin film technology
plasma ion assisted deposition(PIAD)
technological parameter
分类号
TN205 [电子电信—物理电子学]
TJ760.5 [兵器科学与技术—武器系统与运用工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
气相闪蒸纳米硫化铅的表征及其短波红外探测的应用
司
俊杰
陈湘伟
陈凤金
司阿利
黄战利
张庆军
万海林
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2007
0
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职称材料
2
APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺
闫凯
司阿利
《航空兵器》
2008
2
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职称材料
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