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Co对弧光放电离子镀WC-Co膜生长的影响
1
作者
于力
金柱京
+2 位作者
黄燕清
朱天锦
吉川一功
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第5期B229-B232,共4页
利用弧光放电离子镀法获得了难熔超硬WC-Co膜(其中含Co为0,4,15wt-%).随着Co含量的增加,使真空室里等离子态趋于稳定,并使成膜速度增加;其组织结构为Thornton图里的T区,并逐渐由柱状晶组织变成致密...
利用弧光放电离子镀法获得了难熔超硬WC-Co膜(其中含Co为0,4,15wt-%).随着Co含量的增加,使真空室里等离子态趋于稳定,并使成膜速度增加;其组织结构为Thornton图里的T区,并逐渐由柱状晶组织变成致密的组织结构。
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关键词
弧光放电
离子镀
WC-Co膜
钴
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职称材料
题名
Co对弧光放电离子镀WC-Co膜生长的影响
1
作者
于力
金柱京
黄燕清
朱天锦
吉川一功
机构
中国科学院金属腐蚀与防护研究所腐蚀科学开放研究实验室
出处
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第5期B229-B232,共4页
文摘
利用弧光放电离子镀法获得了难熔超硬WC-Co膜(其中含Co为0,4,15wt-%).随着Co含量的增加,使真空室里等离子态趋于稳定,并使成膜速度增加;其组织结构为Thornton图里的T区,并逐渐由柱状晶组织变成致密的组织结构。
关键词
弧光放电
离子镀
WC-Co膜
钴
Keywords
arc discharge ion-plating, WC-Co film, refractory metal, Co
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
Co对弧光放电离子镀WC-Co膜生长的影响
于力
金柱京
黄燕清
朱天锦
吉川一功
《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994
0
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