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太阳电池PID现象的数值模拟分析
被引量:
1
1
作者
向昱任
周春兰
王文静
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期1517-1521,共5页
针对传统晶硅太阳电池电势诱导衰减(PID)现象中可动电荷Na^+在硅表面积累的影响,对发生PID现象电池的非漏电区域和漏电区域分别采用扩展的肖克莱-里德-霍尔复合模型和双电荷层导致p-n结导通的假说进行分析讨论。根据分析结果推测,可动电...
针对传统晶硅太阳电池电势诱导衰减(PID)现象中可动电荷Na^+在硅表面积累的影响,对发生PID现象电池的非漏电区域和漏电区域分别采用扩展的肖克莱-里德-霍尔复合模型和双电荷层导致p-n结导通的假说进行分析讨论。根据分析结果推测,可动电荷Na^+对于组件效率的影响同被SiN_x的场钝化作用所屏蔽的隐性缺陷密切相关。提高界面钝化效果,阻止Na^+扩散至界面处同隐性缺陷结合有利于抗PID组件的制备。
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关键词
电势诱导衰减
表面复合
表面电荷
太阳电池
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职称材料
第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会优秀论文选登(十) PECVD法非晶硅薄膜对太阳能级n型直拉单晶硅片钝化效果的研究
被引量:
1
2
作者
龚洪勇
周浪
+5 位作者
黄海宾
向昱任
汪已琳
张东华
高江
崔冶青
《太阳能》
2013年第1期32-34,共3页
研究了优等化离子体化气相学沉积法(PECVD)在太阳能级n型直拉单晶(Cz)硅衬底上沉积i-a-Si:H薄膜工艺,得到较好的钝化效果。分析了气体流量和温度、气压等工艺参数对薄膜沉积和硅片钝化效果的影响。通过优化参数,钝化后在太阳能级n型Cz硅...
研究了优等化离子体化气相学沉积法(PECVD)在太阳能级n型直拉单晶(Cz)硅衬底上沉积i-a-Si:H薄膜工艺,得到较好的钝化效果。分析了气体流量和温度、气压等工艺参数对薄膜沉积和硅片钝化效果的影响。通过优化参数,钝化后在太阳能级n型Cz硅片(40×40mm)平均少子寿命值在800μs以上,局部在1500μs以上,得到了钝化后平均表面复合速率S<9.4cm/s的优良钝化效果;若硅片τbulk为2ms,则S<5.6cm/s。
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关键词
氢化非晶硅
PECVD
钝化
太阳能级n型硅片
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职称材料
警惕手机产业洗牌的系统风险
3
作者
安晖
徐丰
向昱任
《中国经济报告》
2017年第2期73-74,共2页
随着产业进入成熟期和近几年市场增速放缓,手机产业进入洗牌周期,预计未来几年洗牌速度还将加快手机产业曾经连续多年呈现高速发展,是电子信息制造业的支柱领域。在手机发展热潮中,中国先后涌现出数百个手机品牌。随着产业进入成熟期和...
随着产业进入成熟期和近几年市场增速放缓,手机产业进入洗牌周期,预计未来几年洗牌速度还将加快手机产业曾经连续多年呈现高速发展,是电子信息制造业的支柱领域。在手机发展热潮中,中国先后涌现出数百个手机品牌。随着产业进入成熟期和近几年市场增速放缓,市场竞争越发激烈,产业门槛持续提高,手机产业进入洗牌周期,相当数量的品牌手机企业陷入困局,并由此带来一系列风险。
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关键词
手机产业
放缓
增速
手机品牌
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职称材料
题名
太阳电池PID现象的数值模拟分析
被引量:
1
1
作者
向昱任
周春兰
王文静
机构
中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期1517-1521,共5页
基金
国家高技术研究发展(863)计划(2015AA050302)
文摘
针对传统晶硅太阳电池电势诱导衰减(PID)现象中可动电荷Na^+在硅表面积累的影响,对发生PID现象电池的非漏电区域和漏电区域分别采用扩展的肖克莱-里德-霍尔复合模型和双电荷层导致p-n结导通的假说进行分析讨论。根据分析结果推测,可动电荷Na^+对于组件效率的影响同被SiN_x的场钝化作用所屏蔽的隐性缺陷密切相关。提高界面钝化效果,阻止Na^+扩散至界面处同隐性缺陷结合有利于抗PID组件的制备。
关键词
电势诱导衰减
表面复合
表面电荷
太阳电池
Keywords
PID
surface recombination
surface charges
solar cell
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会优秀论文选登(十) PECVD法非晶硅薄膜对太阳能级n型直拉单晶硅片钝化效果的研究
被引量:
1
2
作者
龚洪勇
周浪
黄海宾
向昱任
汪已琳
张东华
高江
崔冶青
机构
南昌大学太阳能光伏学院&材料科学与工程学院
出处
《太阳能》
2013年第1期32-34,共3页
文摘
研究了优等化离子体化气相学沉积法(PECVD)在太阳能级n型直拉单晶(Cz)硅衬底上沉积i-a-Si:H薄膜工艺,得到较好的钝化效果。分析了气体流量和温度、气压等工艺参数对薄膜沉积和硅片钝化效果的影响。通过优化参数,钝化后在太阳能级n型Cz硅片(40×40mm)平均少子寿命值在800μs以上,局部在1500μs以上,得到了钝化后平均表面复合速率S<9.4cm/s的优良钝化效果;若硅片τbulk为2ms,则S<5.6cm/s。
关键词
氢化非晶硅
PECVD
钝化
太阳能级n型硅片
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
警惕手机产业洗牌的系统风险
3
作者
安晖
徐丰
向昱任
机构
工业和信息化部赛迪智库
出处
《中国经济报告》
2017年第2期73-74,共2页
文摘
随着产业进入成熟期和近几年市场增速放缓,手机产业进入洗牌周期,预计未来几年洗牌速度还将加快手机产业曾经连续多年呈现高速发展,是电子信息制造业的支柱领域。在手机发展热潮中,中国先后涌现出数百个手机品牌。随着产业进入成熟期和近几年市场增速放缓,市场竞争越发激烈,产业门槛持续提高,手机产业进入洗牌周期,相当数量的品牌手机企业陷入困局,并由此带来一系列风险。
关键词
手机产业
放缓
增速
手机品牌
分类号
F426.63 [经济管理—产业经济]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
太阳电池PID现象的数值模拟分析
向昱任
周春兰
王文静
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
1
下载PDF
职称材料
2
第12届中国光伏大会暨国际光伏展览会优秀论文选登(十) PECVD法非晶硅薄膜对太阳能级n型直拉单晶硅片钝化效果的研究
龚洪勇
周浪
黄海宾
向昱任
汪已琳
张东华
高江
崔冶青
《太阳能》
2013
1
下载PDF
职称材料
3
警惕手机产业洗牌的系统风险
安晖
徐丰
向昱任
《中国经济报告》
2017
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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