期刊文献+
共找到22篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
SOI材料的场助键合技术
1
作者 吕世骥 黄安庆 +2 位作者 黄学良 袁璟 蔡跃明 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1991年第5期9-15,共7页
本文报道了SOI(Semiconductor On Insulator)材料的场助键合技术,其中包括Si/SiO_2-SiO_2/Si,Si-石英,GaAs-玻璃等的键合。利用各种检测手段对键合材料的键合面积、键合强度、界面形貌及电学特性进行了测试。文中还讨论了场助键合机理... 本文报道了SOI(Semiconductor On Insulator)材料的场助键合技术,其中包括Si/SiO_2-SiO_2/Si,Si-石英,GaAs-玻璃等的键合。利用各种检测手段对键合材料的键合面积、键合强度、界面形貌及电学特性进行了测试。文中还讨论了场助键合机理、等离子体表面处理方法及场助键合材料的应用实例。 展开更多
关键词 SOI材料 场助键合 表面处理
下载PDF
SiO_2薄膜的等离子体改性及其应用研究
2
作者 吕世骥 郭耀华 +1 位作者 阮宝崧 蔡跃明 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1989年第4期229-234,共6页
本文论述SiO_2薄膜的低温等离子体改性研究。测试了经改性的介质膜的电学性能,利用AES和IR等表面分析技术分析了膜的组分和结构。在此基础上确定了影响膜性质的工艺因素,获得了性能优良的介质膜,并成功地开发了用于制备SOI材料的等离子... 本文论述SiO_2薄膜的低温等离子体改性研究。测试了经改性的介质膜的电学性能,利用AES和IR等表面分析技术分析了膜的组分和结构。在此基础上确定了影响膜性质的工艺因素,获得了性能优良的介质膜,并成功地开发了用于制备SOI材料的等离子体表面处理技术。 展开更多
关键词 等离子体改性 SiO2 电学性能 介质膜 表面分析技术 工艺因素 氮氧化硅 改性技术 击穿场强 电学性质
下载PDF
场助GaAs-玻璃键合工艺的研究
3
作者 吕世骥 黄庆安 童勤义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第9期570-574,T001,共6页
本文较详细地研究了场助GaAs-玻璃键合工艺,在键合前将GaAs和玻璃用H_2等离子体处理.AES结果表明,CaAs表面的本征氧化层被还原,从而使GaAs-玻璃容易键合上,比较了单点接触电极和双平行板电极对键合界面的影响,从SEM断面的图象看出,用单... 本文较详细地研究了场助GaAs-玻璃键合工艺,在键合前将GaAs和玻璃用H_2等离子体处理.AES结果表明,CaAs表面的本征氧化层被还原,从而使GaAs-玻璃容易键合上,比较了单点接触电极和双平行板电极对键合界面的影响,从SEM断面的图象看出,用单点接触电极得到的键合界面较好.直拉法的结果表明,键合强度大于GaAs体单晶的强度. 展开更多
关键词 GAAS 玻璃 键合工艺 氢等离子体
下载PDF
利用SOI材料提高触觉传感阵列的性能
4
作者 吕世骥 黄庆安 +1 位作者 童勤义 袁璟 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第11期695-699,共5页
利用半导体材料、平面工艺和微机械加工研制触觉传感器是当前触觉传感器研究开发的一个重要方面,其中硅膜片电容式触觉传感阵列则是在研究中被广泛采用的结构.然而,触觉传感阵列的性能常受到微机械加工精度的限制.为了提高电容式触觉传... 利用半导体材料、平面工艺和微机械加工研制触觉传感器是当前触觉传感器研究开发的一个重要方面,其中硅膜片电容式触觉传感阵列则是在研究中被广泛采用的结构.然而,触觉传感阵列的性能常受到微机械加工精度的限制.为了提高电容式触觉传感阵列的性能,本工作以SOI材料中异质结界面作为深槽腐蚀中腐蚀自停止界面,以提高硅膜片的表面平整度和厚度均匀性.在此基础上研制了 16×16硅膜片电容式触觉传感阵列,得到了较好的结果. 展开更多
关键词 触觉传感器 SOI材料 微加工
下载PDF
等离子体氮化SiO_2膜中电子陷阱的研究
5
作者 吕世骥 蔡跃明 郭耀华 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1989年第2期22-27,共6页
论述了等离子体氮化对SiO_2薄膜中电子陷阱的影响。提出了一种计算电子陷阱能级和陷阱密度的温度修正。实验结果表明:SiO_2薄膜经等离子体氮化后,电子陷阱的密度和俘获截面有所增大,并引入了一个与等离子体氮化缺陷有关的电子陷阱能级... 论述了等离子体氮化对SiO_2薄膜中电子陷阱的影响。提出了一种计算电子陷阱能级和陷阱密度的温度修正。实验结果表明:SiO_2薄膜经等离子体氮化后,电子陷阱的密度和俘获截面有所增大,并引入了一个与等离子体氮化缺陷有关的电子陷阱能级。适当地退火可以减少等离子体氮化对SiO_2中电子陷阱的影响。 展开更多
关键词 氮化 SIO2 电介质膜 电子陷阱
下载PDF
SOI材料的场助键合技术
6
作者 吕世骥 黄学良 +2 位作者 黄庆安 袁璟 蔡跃明 《电子器件》 CAS 1990年第4期22-27,共6页
本文报道了SOI(Semiconductor On Insulator)材料的场助键合技术,其中包括SiO_2—SiO)2、Si-SiO_2、Si—石英、GaAS—玻璃等的键合.利用各种检测手段对键合材料的键合面积、键合强度、界面形貌及电学特性进行了测试,文中还讨论了场助键... 本文报道了SOI(Semiconductor On Insulator)材料的场助键合技术,其中包括SiO_2—SiO)2、Si-SiO_2、Si—石英、GaAS—玻璃等的键合.利用各种检测手段对键合材料的键合面积、键合强度、界面形貌及电学特性进行了测试,文中还讨论了场助键合机理、等离子体表面处理方法及场助键合村料的应用实例.结果表明,场助键合技术是一种有很大潜力的技术. 展开更多
关键词 场助键合 SOI材料 等离子体 半导体材料
下载PDF
半导体智能传感器的研制动态及技术课题 被引量:2
7
作者 张盛东 吕世骥 《传感技术学报》 CAS CSCD 1992年第2期39-42,共4页
智能传感器的开发、使用已为人们所关注,20多年来,国内外有很多报导.本文就此对其概念、研制动态和需要解决的技术课题等作一综合性介绍,供同仁参考.1 智能传感器的一般概念和基本特征智能传感器(系统)至今尚无确切含义,在美国俗称Smert... 智能传感器的开发、使用已为人们所关注,20多年来,国内外有很多报导.本文就此对其概念、研制动态和需要解决的技术课题等作一综合性介绍,供同仁参考.1 智能传感器的一般概念和基本特征智能传感器(系统)至今尚无确切含义,在美国俗称Smert Sensor. 展开更多
关键词 半导体 传感器 研制
下载PDF
GaAs MESFET栅的取向效应——Ⅰ.解析模型
8
作者 黄庆安 吕世骥 童勤义 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第4期199-208,共10页
本文根据压电效应模型,详细研究了(100),(011)和(111)衬底上 GaAs MESFET栅的取向特性.通过合适的正交变换,求出了压电电荷密度.考虑到沟道-衬底界面的耗尽层,得到了阈值电压随栅取向变化的解析表达式.结果与两维数值分析基本一致.
关键词 阈值电压 取向效应 漂移
下载PDF
短沟道离子注入GaAs MESFET解析模型
9
作者 黄庆安 吕世骥 童勤义 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1992年第6期23-29,共7页
本文提出了一种新的离子注入短沟道GaAsMESFET直流解析模型,并将解析模型与实验数据进行了比较。结果表明,本文提出的解析模型可以同时描述高、中和低夹断电压的短沟道离子注入GaAs MESFET直流特性.
关键词 离子注入 晶体管模型 MESFET GAAS
下载PDF
硅电容式触觉传感阵列及相关技术
10
作者 秦明 黄庆安 +1 位作者 吕世骥 张会珍 《传感器技术》 CSCD 1993年第4期1-7,共7页
从目前硅电容式触觉传感阵列的研究现状出发,详细分析了各种阵列单元结构、加工工艺、读出电路的设计和性能特征等。最后探讨了今后触觉传感阵列的研究趋向和发展前景。
关键词 触觉传感阵列 传感器 硅电容式
下载PDF
自分光式色敏器件理论设计 被引量:1
11
作者 阮宝崧 吕世骥 蔡跃明 《传感技术学报》 CAS CSCD 1989年第2期26-30,共5页
本文首先从色度学角度提出对色敏器件的要求,接着指出现有色敏器件内不适合测物体色的原因,最后提出一种自分光式色敏器件的理论。该器件采用不同厚度的硅片做滤光片,再利用两只性能相近的色敏管输出的差值作信号,这样就可获得区域响应... 本文首先从色度学角度提出对色敏器件的要求,接着指出现有色敏器件内不适合测物体色的原因,最后提出一种自分光式色敏器件的理论。该器件采用不同厚度的硅片做滤光片,再利用两只性能相近的色敏管输出的差值作信号,这样就可获得区域响应的输出,该输出具有分光性质。该器件的最大优点是可以用程控放大器或微机修正,从而获得精确的物体色的有关参数,而无需附加分光系统。 展开更多
关键词 自分光 色敏
下载PDF
硅片直接键合技术的氧等离子体表面处理
12
作者 蔡跃明 吕世骥 孙国梁 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1990年第6期46-48,共3页
硅片直接键合技术是制备SOI材料的有效途径,其关键工艺是对SiO_2表面进行活化处理。本文报道用 AES、XPS 和 IR 分析研究不同条件氧等离子体处理对 SiO_2表面结构和性质的影响。结果表明,SiO_2经氧等离子体处理后,活性氧和电子破坏了硅... 硅片直接键合技术是制备SOI材料的有效途径,其关键工艺是对SiO_2表面进行活化处理。本文报道用 AES、XPS 和 IR 分析研究不同条件氧等离子体处理对 SiO_2表面结构和性质的影响。结果表明,SiO_2经氧等离子体处理后,活性氧和电子破坏了硅氧桥结构,导致表面活化,易于吸附OH^-和 H^+离子,表面腐蚀速度增大。用处理后的硅片实现了不加压的键合,获得了性能优良的 SOI材料。 展开更多
关键词 硅片 键合 等离子体 表面处理 SOI
下载PDF
电容式触觉传感阵列单元的理论设计
13
作者 黄如 吕世骥 《电子器件》 CAS 1992年第4期235-242,共8页
本文主要分析了16×16电容式触觉传感阵列中一种新的单元结构——异型膜结构的理论设计.建立了异型膜模型,并首次通过求解大挠度情况下的挠曲微分方程,对异型膜进行数值模拟,研究了异型膜的结构参数对传感器灵敏度的影响,并估算出... 本文主要分析了16×16电容式触觉传感阵列中一种新的单元结构——异型膜结构的理论设计.建立了异型膜模型,并首次通过求解大挠度情况下的挠曲微分方程,对异型膜进行数值模拟,研究了异型膜的结构参数对传感器灵敏度的影响,并估算出外力的动态范围.结合实践,为阵列单元设计提供了可靠的理论依据. 展开更多
关键词 触觉传感阵列 机器人 电容式 设计
下载PDF
薄SiO_2膜的等离子体氮化研究
14
作者 蔡跃明 吕世骥 简跃光 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1989年第6期7-11,共5页
本文论述了薄SiO_2膜的低温等离子体氮化。报道了所测试的氮化SiO_2膜的电学性能。利用AES、IR和SIMS等表面分析技术分析了膜的结构和组份,讨论了氮化条件对膜性质的影响,并提出了物理模型加以解释。
关键词 SIO2膜 等离子体氮化 MOS器件
下载PDF
等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响
15
作者 蔡跃明 吕世骥 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1990年第4期45-46,共2页
本文研究了等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响。结果表明,Si-SiO_2结构经等离子体氢处理后,其界面特性变差。
关键词 SI-SIO2 等离子体氢 结构
下载PDF
∑△D/A转换原理及应用
16
作者 蔡跃明 赵刚 吕世骥 《半导体杂志》 1996年第1期9-13,共5页
本文从信号处理理论的角度,讨论了∑△D/A转换技术,并介绍了二个应用实例。
关键词 数-模转换器 ∑△调制器 数字滤波器 信号处理
下载PDF
电子陷阱的雪崩注入测量方法
17
作者 蔡跃明 吕世骥 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第6期32-34,共3页
本文从俘获动力学出发,推导了荷电陷阱引起的平带电压变化量随时间变化的一般形式,并对SiO_2膜中的电子陷阱密度、能级和俘获截面进行了测量.结果表明测量陷阱密度时不能忽略激发因素的影响.
关键词 电子陷阱 雪崩注入 测量
全文增补中
GaAs压电物性的研究 被引量:1
18
作者 黄庆安 吕世骥 童勤义 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1991年第2期16-21,共6页
较详细地讨论了GaAs压电效应的起源。有3种不同的机制对压电效应有贡献.这些机制是离子电荷的内部位移、电子电荷的内部位移和由于应变引起的离子性的变化.推导出了任意晶体取向压电常数张量的表达式,证明了,对正应力而言,GaAs〈111〉... 较详细地讨论了GaAs压电效应的起源。有3种不同的机制对压电效应有贡献.这些机制是离子电荷的内部位移、电子电荷的内部位移和由于应变引起的离子性的变化.推导出了任意晶体取向压电常数张量的表达式,证明了,对正应力而言,GaAs〈111〉方向有最强压电效应发生,且Ga原子呈负电性,而As原子则呈正电性. 展开更多
关键词 GAAS 压电效应 化合物半导体
下载PDF
A STUDY OF THE PIEZOELECTRIC PROPERTIES OF GaAs
19
作者 黄庆安 吕世骥 童勤义 《Journal of Southeast University(English Edition)》 EI CAS 1991年第2期25-29,共5页
The origin of the piezoelectric effect of GaAs is discussed in some detail.TheGa atoms are negatively charged and As atoms positively charged.The piezoelectric con-stant tensors for arbitrarily oriented GaAs have been... The origin of the piezoelectric effect of GaAs is discussed in some detail.TheGa atoms are negatively charged and As atoms positively charged.The piezoelectric con-stant tensors for arbitrarily oriented GaAs have been obtained.It is verified that for nor-mal stress when the GaAs samples are oriented in the 〈111〉 direction the maximumpiezoelectric effect occurs.As far as the piezoelectric properties and fabrication technologyare concerned,〈100〉 oriented GaAs substratcs are fit for the force sensors. 展开更多
关键词 PIEZOELECTRIC effect GALLIUM ARSENIDE sensor/integrated GAAS dcvice
下载PDF
GaAs MESFET栅的取向效应——Ⅱ.实验
20
作者 黄庆安 童勤义 吕世骥 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第5期274-278,共5页
研究了(100)GaAs衬底上,离子注入自对准 WSi_x栅 GaAs MESFET的阈值电压漂移与栅长和取向的关系。当栅长小于2μm时,栅不同取向的阈值电压差别很大.本文同样将解析模型与已有的(111)GaAs衬底的实验进行了比较.结果表明解析模型与实验符... 研究了(100)GaAs衬底上,离子注入自对准 WSi_x栅 GaAs MESFET的阈值电压漂移与栅长和取向的关系。当栅长小于2μm时,栅不同取向的阈值电压差别很大.本文同样将解析模型与已有的(111)GaAs衬底的实验进行了比较.结果表明解析模型与实验符合较好. 展开更多
关键词 MESFET栅 取向效应 GAAS衬底
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部