透明陶瓷保护膜的研究

对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀 (专利号 :85 10 2 6 0 0 .1)技术镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,再采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀 (专利号 :ZL982 36 95 0 .6 )技术在不锈钢镀膜表面上镀制Ti N/ Au/透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。对其硬度。

真空离子精饰镀膜技术研究

黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀 ,镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制 Ti N/ Au透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析。

真空离子掺金镀技术

离子掺金镀是多弧离子镀与磁控溅射有机复合技术，主要用于离子镀金代替目前盛行而危害人体健康的闪镍工艺。

多离子束材料表面改性层研究

多离子束(简称MIB)是离子注入发展起来的材料表面改性高技术,工膜具经MIB处理后现场使用寿命可提高2～4倍。材料经MIB处理后改性层的硬度明显提高、摩擦系数减小、耐磨性增强;改性层是由(Ti_3N+TiN)、(αFe+TiN)、(αFe(N)+Cr_7C_3)三层次组成,与基体间附着性好、晶粒细化呈纳长相。

透明陶瓷保护膜

采用等离子体型反应离子镀膜技术在经离子掺金的试件上镀制SiO2 、SiO2 TiO2 透明陶瓷膜 ,并对该膜进行电子探针成分定量分析、薄膜X射线衍射分析、透明陶瓷保护膜硬度测试和磨损实验。