化学镀Ni-P-纳米SiO2复合镀层稳定剂的研究

以沉积速率、镀液的稳定性、复合镀层的孔隙率和显微硬度为评价指标,研究了碘酸钾和硫酸铜对化学镀NiP纳米SiO2复合镀层的影响。结果表明:单独使用碘酸钾作稳定剂时,碘酸钾适宜的质量浓度为60~80 mg/L;单独使用硫酸铜作稳定剂时,硫酸铜适宜的质量浓度为20~40 mg/L;当80 mg/L碘酸钾与20 mg/L硫酸铜复配时,沉积速率最快,孔隙率较低,显微硬度最高。