2500年前中国青铜兵器表面合金化技术研究

东周时期，在吴越地区的少数青铜兵器表面上，有一种非机械镶嵌的菱形纹饰，极具装饰性，如在著名的越王勾践剑和吴王夫差矛上，即分布着这种规则的菱形纹。本文对东周时期一块菱形纹饰剑残段进行了分析测试，结果表明：在剑的表面规则地分布着一层厚约几十μｍ的细枝晶层，该层的成分和组织与基体完全不同，有较好的耐蚀性，能保护基体不受腐蚀。据此，经过工艺筛选，模拟古代可能有的工艺——膏剂涂覆法，成功地复制出有细晶区的菱形纹饰剑，并参照埋藏条件作加速腐蚀试验，使菱形纹饰由黄白相间变成与古剑相似的黑灰相间的色泽，其成分、结构等亦与古物相似，从而解开了“菱形暗格纹”形成之谜。

越王勾践剑菱形纹饰技术再讨论——与董亚巍、周卫荣、王昌燧先生商榷兼谈科技考古方法问题

本文简介了已完成科学检测与模拟试验的东周青铜剑菱形暗格纹的成分、组织与形成工艺,认为金属膏剂涂层加热扩散工艺是东周时期唯一的、完全可能实现的、使青铜表面富锡和细晶化的表面装饰工艺;认为菱形纹饰呈黑色是特定埋藏条件下形成的;解释了越王勾践剑未见铭文错金的原因。并就此与董亚巍、周卫荣、王昌燧等先生进行商榷。

吴越菱形纹饰铜兵器技术初探

吴越菱形纹饰铜兵器技术初探谭德睿，廉海萍（上海博物馆）吴则嘉，苏立民，李靖，张国英（上海材料研究所）唐静娟，许志正（复旦大学）春秋战国时期，吴越地区少数青铜剑矛等兵器表面，有一种非机械镶嵌的菱形纹饰，例如在越王勾践剑和吴王夫差矛上，即分布着这种规则的...

辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜,通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法。方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度、剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照。试验结果表明,分析方法快速、准确,具有实际应用价值。

PECVD生长纳米硅薄膜的X射线衍射分析

等离子增强化学沉积生长的纳米硅薄膜是由纳米级尺寸的晶粒和晶界组成的厚度极薄的薄膜,采用X射线薄膜衍射法即X射线以低掠射角(1°～5°)入射,延长X射线在薄膜中的行程,同时将聚焦光路改为平行光光路,以提高来自薄膜的衍射强度,得到纳米硅薄膜的衍射峰。借此方法,研究了本征膜和掺磷薄膜的硅晶体结构及掺磷浓度对硅晶粒大小和晶格微观畸变的影响。

纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究

研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用。通过等离子化学气相沉积法(PECVD),制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(ncSi:H),利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征。通过实验,发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式,PECVD工艺参数如衬底温度、直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响。

辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

东周铜兵器菱形纹饰技术研究

一、序论中国青铜兵器发展到东周时期,出于诸侯争霸的需要,兵器的形制和制作技术有了显著进步,铁刃铜戈、铁铤铜镞以及调节脊与从部含锡量以获得刚柔相济性能的青铜复合剑技术,均出现于这个时期。吴、越的兵器制作技术更是名满天下。《考工记·总序》:'吴粤(越)之剑,迂乎其地而弗能为良。'从出土实物考察,古文献对吴越兵器精良的评价并不过分。