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缓冲层对AZO薄膜光电性能的影响
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作者 周媛 肖立娟 +3 位作者 吴忆华 徐忠平 陈耀星 霍堡垒 《实验科学与技术》 2016年第3期36-40,共5页
该文综述了利用外延技术在高失配度的基片上生长同质或者异质缓冲层能够提高AZO薄膜的质量。重点阐述不同工艺条件下制备缓冲层对AZO薄膜光电性能影响,介绍AZO薄膜发展近况,并指出目前AZO薄膜发展瓶颈,展望了其未来发展趋势。
关键词 AZO薄膜 外延技术 缓冲层
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