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磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析
1
作者
朱武
褚向前
周平权
《真空》
CAS
2014年第4期44-47,共4页
磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性,为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析...
磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性,为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。
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关键词
磁控溅射
结构参数
磁场分布
有限元模拟
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职称材料
题名
磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析
1
作者
朱武
褚向前
周平权
机构
合肥工业大学真空科学技术与装备研究所
出处
《真空》
CAS
2014年第4期44-47,共4页
文摘
磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性,为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数。
关键词
磁控溅射
结构参数
磁场分布
有限元模拟
Keywords
magnetron sputtering
structural parameters
magnetic field distribution
finite element simulation
分类号
TB79 [一般工业技术—真空技术]
TB43 [一般工业技术]
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作者
出处
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1
磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析
朱武
褚向前
周平权
《真空》
CAS
2014
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