活化剂对Al－Cr扩散层中孔穴形成的影响

Ｎｉ衬底用粉末包装法先扩散Ａｌ再扩散Ｃｒ时，在Ａｌ—Ｃｒ扩散层内产生了孔穴。它形成的原因是：活化剂ＮＨ４Ｃｌ加热分解时生成ＨＣｌ气体，与已形成扩散层中的Ａｌ作用，使其从扩散层中逃逸，而在原来Ａｌ的位置上产生了孔穴。含有孔穴的Ａｌ－Ｃｒ扩散层的抗氧化能力明显降低。

用随机单纯形法分析交流阻抗教据

本文提出了一种可以应用于由交流阻抗数据计算等效电路元件数值的数据拟合方法-随机单纯形法。这一方法能一次同时求解多个电路元件,对复杂的等效电路尤为有效,因此十分适合于有弥散效应时的数据处理。利用按随机单纯形法编制的软件,给出了计算实例,还分析了阻抗测量误差对拟合计算结果的影响。

椭圆偏振法研究镍表面的钝化膜

用椭圆偏振法研究了镍在硼酸盐缓冲溶液中,于初始钝化处(-0.5V,SCE)、稳定钝化处(0.4V)和钝化/过钝化交界处(0.8V)恒电位阳极极化时所生成的钝化膜。分析了钝化膜的厚度、生长动力学规律、成份和生长机理。结果表明:钝化膜的厚度、成份和生长机理都与外加电位有关;在所研究的电位下,钝化膜都具有双层结构;膜生长都先生成外层膜,随后在其下面再生成一层内层膜;内层膜的生长都服从线性规律,外层膜的生长规律分别为线性规律、抛物线规律和对数规律。

奥氏体不锈钢在高温磷酸浓溶液中的阳极极化行为

测量了奥氏体不锈钢９０４Ｌ在１４０℃、８５％磷酸溶液中的阳极极化曲线，讨论了不同电位区域内的阳极极化行为，并用交流阻抗法研究了不同电位区域内钝化膜的阻抗行为．在活化－钝化过渡区，阻抗谱的高频部分为容抗弧，在低频出现扩散控制现象．在稳定钝化区；阻抗谱由容抗半圆组成，受表面钝化膜的生长和溶解过程所控制．在该区域内，钝化膜的阻抗值达到最大，弥散系数和膜电容值达到最小，表明所生成的钝化膜的耐蚀性好，致密度高，膜较厚且表面均匀．在过钝化区，高频容抗弧的直径大为减小，说明由于过钝化溶解，膜的耐蚀性大大下降；低频出现两个感抗弧，说明出现了阴离子的吸附．阳极充电曲线和电位衰减曲线的结果表明在稳定钝化区内，膜的组织和成分应该是均匀的；钝化膜的生长电位越高，膜越稳定．综上结果表明奥氏体不锈钢在高温磷酸浓溶液中实施阳极保护具有保护电位范围宽（０．３～０．８Ｖ，ＳＣＥ），钝化膜稳定等优点．磷酸的温度越低，保护效果越明显．

高温磷酸中材料的腐蚀与阳极保护

1 概述 热法磷酸由于具有浓度高、质量纯等优点,在食品和医药工业中得到广泛应用。它是以元素磷为原料,经氧化、水化等反应而制得。黄磷在燃烧塔中经雾化后先与空气混合燃烧生成P_2O_5,然后进入水化塔进行水化和吸收而制得磷酸。此时所得到的磷酸浓度较低,约为55％左右,须经蒸发浓缩后才能得到85％左右的成品磷酸。在蒸发器中由于磷酸的浓度很高,且又处在沸腾状态,因此材料的腐蚀问题十分严重。一般的金属材料(除铂、钼、钯以外)都很难满足腐蚀要求。普通的不锈钢只适用于65℃以下或浓度不超过40％的沸腾磷酸溶液中。

多入射角椭偏法同时测量衬底光学常数和膜参数

本文首先讨论了多入射角椭偏法同时测量衬底光学常数和膜参数时结果的唯一性跟各未知参数间相关性的关系,从而提出了选择合适入射角的一般原则.计算了不同入射角下硅-二氧化硅体系和不锈钢钝化膜体系的椭偏参数△、(?)对n_2、k_2、n_f、、d和人射角(?)_0的一阶导数,考查了各未知参数之间的相关性.最后给出了用随机单纯形法对这两个体系进行拟合计算的实例.