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热氧化方法制备直径可控的有序硅纳米线阵列
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作者 周步康 李新化 +4 位作者 曹华翔 史同飞 陈涛 郑建强 王玉琦 《半导体光电》 北大核心 2017年第4期521-525,540,共6页
采用金属辅助化学刻蚀方法结合纳米球模板技术制备出了有序硅纳米线阵列。硅纳米线阵列经过高温热氧化形成一定厚度的氧化层,再使用稀释的HF溶液去除表面氧化层得到可控直径/周期比、低孔隙密度的有序纳米线阵列。主要研究了氧化温度、... 采用金属辅助化学刻蚀方法结合纳米球模板技术制备出了有序硅纳米线阵列。硅纳米线阵列经过高温热氧化形成一定厚度的氧化层,再使用稀释的HF溶液去除表面氧化层得到可控直径/周期比、低孔隙密度的有序纳米线阵列。主要研究了氧化温度、氧化时间对硅纳米线形貌的影响,并根据扩展的Deal-Grove模型计算了硅纳米线氧化层厚度与氧化时间的关系,讨论了氧化过程中应力分布的影响,理论计算结果与实验结果一致。最后,采用两步氧化的方法制备出了低直径/周期比(约0.1)、低孔隙密度的有序硅纳米线阵列。 展开更多
关键词 金属辅助化学刻蚀 热氧化 低直径/周期比 硅纳米线 扩展Deal-Grove模型
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基于Au辅助化学刻蚀法实现低成本制备硅纳米线阵列 被引量:1
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作者 段花花 李新化 +4 位作者 周步康 史同飞 李宁 陈健 王玉琦 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第4期597-601,649,共6页
Au在Si表面的成膜质量对金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线至关重要。以Ti、Cr作为浸润层,可显著改善Au在硅表面的成岛趋势,获得优质的Au膜并大幅度减少Au的使用量。同时,针对加入Ti、Cr后对Au辅助化学刻蚀影响的研究表明,Cr在刻蚀液中是... Au在Si表面的成膜质量对金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线至关重要。以Ti、Cr作为浸润层,可显著改善Au在硅表面的成岛趋势,获得优质的Au膜并大幅度减少Au的使用量。同时,针对加入Ti、Cr后对Au辅助化学刻蚀影响的研究表明,Cr在刻蚀液中是稳定的,因此阻碍了Au催化刻蚀反应,而Ti与反应溶液快速反应,不影响Au对Si衬底化学刻蚀的催化作用。基于以上工作,以PS球为模板沉积制备Ti/Au(3nm/20nm)优质膜,使用金属辅助化学刻蚀,制备了有序的Si纳米线阵列。 展开更多
关键词 Au膜 金属辅助化学刻蚀 SI纳米线 浸润层 低成本
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A Novel Sandwich Needlelike Structure in Annealed P3HT:PCBM Blend Films
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作者 曾雪松 史同飞 +6 位作者 李宁 李新化 赵玉峰 王文博 周步康 段花花 王玉琦 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2014年第6期158-161,共4页
唯一的 needlelike 三明治结构在 P3HT 被观察: 在在 220 湩琠敨攠敶瑮退火以后的 PCBM 混合电影吗?
关键词 夹层结构 共混膜 退火 针状 再结晶行为 结构观察 生长率 共熔体
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Synthesis and Photoluminescence Properties of GaAs Nanowires Grown on Fused Quartz Substrates
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作者 赵玉峰 李新化 +6 位作者 史同飞 王文博 周步康 段花花 曾雪松 李宁 王玉琦 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2014年第5期100-103,共4页
GaAs nanowires are synthesized on fused quartz substrates by using molecular beam epitaxy via a vapor-liquidsolid mechanism with gold as the catalyst. High resolution-transmission electron microscopy is used to probe ... GaAs nanowires are synthesized on fused quartz substrates by using molecular beam epitaxy via a vapor-liquidsolid mechanism with gold as the catalyst. High resolution-transmission electron microscopy is used to probe crystal quality and growth direction. Miero-photolumineseenee measurements are carried out to examine the optical properties of GaAs NWs. The low-temperature photoluminescenee (PL) emission of nanowires (NWs) has a peak at 1.513eV, 2meV lower than the zinc blende GaAs free exciton energy. The temperature-dependent band gap of NWs is seen to be somewhat different from that observed in bulk OaAs, and the PL rapidly quenches above 150K, with an activation energy of 6.3meV reflecting the presence of the longitudinal twins' structure. 展开更多
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铁掺杂对不同导电类型硅材料电阻率的影响 被引量:3
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作者 周步康 范艳伟 陈朝阳 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期10-13,共4页
采用电阻率为4.8.cm的p型硅片和10.cm的n型硅片,通过高温扩散法制备出了Fe掺杂的补偿硅材料。在室温避光条件下,测量样品电阻率ρ,并用XRD对扩散后的样品进行分析,研究了Fe掺杂对不同导电类型硅材料电阻率的影响。结果表明:相对于n型硅... 采用电阻率为4.8.cm的p型硅片和10.cm的n型硅片,通过高温扩散法制备出了Fe掺杂的补偿硅材料。在室温避光条件下,测量样品电阻率ρ,并用XRD对扩散后的样品进行分析,研究了Fe掺杂对不同导电类型硅材料电阻率的影响。结果表明:相对于n型硅材料,深能级杂质Fe掺杂对p型硅材料电阻率的影响更大,其Fe掺杂p型硅材料电阻率远大于Fe掺杂n型硅材料;当p型硅表面Fe扩散源浓度为1.74×10–5mol/cm2时,在1 200℃下扩散1 h后,材料具有最大电阻率7 246.cm。 展开更多
关键词 P型硅 N型硅 深能级杂质 Fe 电阻率 补偿度
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Preparation and thermal-sensitive characteristic of copper doped n-type silicon material 被引量:1
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作者 范艳伟 周步康 +2 位作者 王军华 陈朝阳 常爱民 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第1期32-35,共4页
Copper doped n-type single-crystal silicon materials are prepared by a high temperature diffusion process. The electrical and thermal-sensitive characteristic of materials is investigated under different experimental ... Copper doped n-type single-crystal silicon materials are prepared by a high temperature diffusion process. The electrical and thermal-sensitive characteristic of materials is investigated under different experimental conditions. The results show that the maximum resistivity of 46.2 Ω·cm is obtained when the sample is treated at 1200℃ for 2 h with the surface concentration of the copper dopant source being 1.83×10^7mol/cm^2. The copper doped n-type silicon material presents a negative temperature-sensitive characteristic and the B values are about 3010–4130 K. 展开更多
关键词 single-crystal silicon deep level impurity copper
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Growth and properties of GaAs nanowires on fused quartz substrate
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作者 赵玉峰 李新化 +6 位作者 王文博 周步康 段花花 史同飞 曾雪松 李宁 王玉琦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第9期21-26,共6页
The growth of GaAs nanowires directly on fused quartz substrates using molecular beam epitaxy via a vapor-liquid-solid mechanism with gold as catalyst is reported. Unlike conventional Au-catalyst MBE growth of nanowir... The growth of GaAs nanowires directly on fused quartz substrates using molecular beam epitaxy via a vapor-liquid-solid mechanism with gold as catalyst is reported. Unlike conventional Au-catalyst MBE growth of nanowires (NWs) on GaAs substrates, zinc blende is found to be the dominant crystal structure for NWs grown on fused-quartz substrates by MBE. Further transmission electron microscopy measurements show that the prepared ZB NWs have the growth direction of [112] and lamellar { 111 } twins extend through the length of NWs. Although there are longitudinal planar defects that extend through NWs, the narrow full width at half maximum of PL implies high crystal quality of NWs grown on fused-quartz substrates. 展开更多
关键词 GaAs nanowires molecular beam epitaxy fused quartz zinc blende structure PHOTOLUMINESCENCE
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