期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
石化废水处理过程中荧光有机物变化特征及去除效果 被引量:11
1
作者 周璟玲 席宏波 +2 位作者 周岳溪 许吉现 宋广清 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期704-708,共5页
石化废水排放量大、污染物成分复杂,对环境的危害较大。采用三维荧光光谱扫描技术分析了某大型石化企业综合污水处理厂各处理单元(水解酸化+A/O+接触氧化工艺)进出水的荧光光谱特征。污水厂总进水包含四个荧光峰Peak A,Peak B,Peak D,Pe... 石化废水排放量大、污染物成分复杂,对环境的危害较大。采用三维荧光光谱扫描技术分析了某大型石化企业综合污水处理厂各处理单元(水解酸化+A/O+接触氧化工艺)进出水的荧光光谱特征。污水厂总进水包含四个荧光峰Peak A,Peak B,Peak D,Peak E,分别位于λex/λem=220/300,225/340,270/300,275/340nm附近,荧光物质主要来自工业废水,水解酸化池出水各荧光峰强度有所降低,位置基本不变,厌氧池出水λex/λem=250/425nm附近出现新荧光峰Peak C,好氧池出水荧光峰Peak C处荧光强度有所增强,二沉池出水Peak A消失,二沉池之后水样荧光谱图变化不大;该处理工艺对荧光有机物的总去除率为92.0%,Peak A,Peak B,Peak D,Peak E附近的荧光有机物去除率分别为100.0%,91.2%,80.3%,92.0%;污水厂进水IPeak B/IPeak E值波动较大而出水变化不大,表明该污水处理厂运行稳定,其处理工艺具有较强的抗冲击负荷能力。 展开更多
关键词 石化废水 三维荧光光谱 荧光有机物 水解酸化+A O+接触氧化工艺
下载PDF
石化综合污水生化处理中有机污染物的分析 被引量:8
2
作者 岳岩 席宏波 +3 位作者 周岳溪 肖举强 刘苗茹 周璟玲 《化工环保》 CAS CSCD 北大核心 2014年第3期296-300,共5页
运用GC-MS、紫外光谱及三维荧光光谱扫描技术考察了石化污水处理厂"水解酸化—厌氧处理—好氧处理"工艺的各单元出水中有机污染物的变化情况。总进水中检出84种主要有机污染物,主要含有烃类27种,酚类5种,醛、酯、醇和酮类化... 运用GC-MS、紫外光谱及三维荧光光谱扫描技术考察了石化污水处理厂"水解酸化—厌氧处理—好氧处理"工艺的各单元出水中有机污染物的变化情况。总进水中检出84种主要有机污染物,主要含有烃类27种,酚类5种,醛、酯、醇和酮类化合物共24种,胺类4种,腈、有机酸及其他杂环化合物14种,另有10种物质未定性;该工艺的COD累积去除率达87.66%,64种有机污染物被完全去除,17种有机污染物去除率可达90%以上,接触氧化池出水中主要含杂环化合物和少量醛、醇、酯类化合物。 展开更多
关键词 石化废水 有机污染物 水解酸化 厌氧处理 好氧处理
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部