基于UiO-66光催化印迹复合膜的制备、表征及性能研究

以UiO-66膜为基底膜,四环素为目标污染物,利用分子印迹技术对UiO-66表面进行特异性修饰,赋予其具有识别四环素分子的功能,以此构建选择性光催化复合膜,探究最佳印迹比例,对复合方式进行研究,并结合XRD、FT-IR和UV-vis DRS对产品进行表征。实验结果:150%印迹位的UiO-66对四环素吸附性能最好;二氧化钛占比100%及二氧化钛包裹UiO-66材料的复合方式对四环素光催化降解性能最好;将二氧化钛通过抽滤负载在膜上的复合方式最好。XRD和FT-IR谱图证实,所得产品的分子结构和官能团无误;UV-vis DRS谱图表明,通过实验增强了产品的光吸收性能。