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题名高速光亮镀金
被引量:2
- 1
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作者
唐济才
王素琴
喻如英
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机构
中科院计算技术研究所
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1992年第4期175-179,共5页
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文摘
讨论新型高速光亮镀金溶液的配方以及操作条件的变化对金镀层的孔隙率,阴极电流效率,镀层外观的影响。由于该镀液能在高电流密度下操作,因而在电子工业中可用于印制电路板插头及其簧片的自动镀金和高速滚镀金系统。
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关键词
镀金
印制板
插头
孔隙率
电镀
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Keywords
gold plating at higher speed
plugs to printed circun board
porosity cathodic efficiency
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分类号
TQ153.18
[化学工程—电化学工业]
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题名离子选择性电极在印制板生产中的应用
- 2
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作者
唐济才
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机构
中国科学院计算■■■究所
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出处
《电子工艺技术》
1991年第1期6-12,共7页
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文摘
1 前言离子选择性电极是60年代中期发展起来的测量溶液中离子浓度的新技术,随着生产的需要和发展新型的离子选择性电极种类不断增多,目前已达到数十种。本文所介绍的主要是应用离子选择性电极在印制板生产中常用溶液的典型分析方法和测量技术,以及离子选择性电极测量技术的基本原理。 2 电极电位与离子选择性电极 2.1 电极电位将某种金属电极浸入到含有金属离子的溶液中,则在电极上会产生一定的电位。
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关键词
离子选择性
电极
印制板
溶液
浓度
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分类号
TN407
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名印制板高速闪镀金
- 3
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作者
唐济才
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机构
中国科学院计算技术研究所
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出处
《电子信息(深圳)》
1998年第2期9-13,共5页
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关键词
印制板
制造工艺
高速闪镀金
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分类号
TN710.05
[电子电信—电路与系统]
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题名低应力高速镀镍
- 4
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作者
喻如英
王素琴
唐济才
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机构
中国科学院计算技术研究所
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1992年第1期25-28,共4页
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文摘
在印制电路板插头上用镀镍层作为贵金属的衬底镀层,美国军标STD——275对该镀层的要求是最小厚度为5毫微米的低应力镍,本文对低应力镍溶液进行研究,并且得到良好的结果。
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关键词
镀镍
印刷电路板
应力分析
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Keywords
Ni-electroplating
pluge
printed circuit boaro
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分类号
TQ153.12
[化学工程—电化学工业]
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题名光亮酸性镀铜产生粉状镀层之原因
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作者
唐济才
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机构
北京星火新技术公司
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出处
《印制电路信息》
2000年第6期52-52,51,共2页
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文摘
印制电路信息报113期,贾水生、熊海平两同志写的关于'铜粉的思考'。报导了几个工厂光亮酸性镀铜工作一直正常,后来遂渐发生镀层呈铜粉状,补加光亮剂,调整镀液硫酸铜,硫酸含量都无济于事。本人工作中也曾遇到几个单位出现过类似问题,经分析主要原因是镀液中氯离子含量过高。为了保证磷铜阳极正常溶解镀液中必须含有一定浓度范围的 Cl^-离子。
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关键词
光亮酸性镀铜
粉状镀层
印制电路
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
TQ153
[化学工程—电化学工业]
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题名再论加成法
被引量:1
- 6
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作者
GEORGE MESSNER
唐济才
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机构
美国P.C.K公司
北京市星大新技术公司
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出处
《印制电路信息》
1997年第4期23-30,共8页
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文摘
1.引言 25年前PWB的制造便采用了全加成法,至今在日本仍用这种方法制造双面板,但主要是用于民品,同时这种方法也逐渐渗透到欧美市场,但很有限。由下面的这组数据显示出在1989年用加成法生产的PCB产量不到全球的2%。
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关键词
加成法
印制板
化学镀铜液
热风整平
金属化孔
混合电位
沉积速率
化学镀铜层
伸长率
电镀铜
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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