ChCl-Urea低共熔溶剂中Zn-Ni合金的电沉积行为研究

以氯化胆碱-尿素(ChCl-Urea)为溶剂,研究Zn-Ni合金的电沉积行为。采用计时安培法和循环伏安法对Zn-Ni合金的电沉积机理进行研究,采用扫描电子显微镜/能谱仪(SEM/EDS)和X射线衍射仪(XRD)对镀层的微观形貌、元素组成和物相组成进行表征。分析结果表明:Zn-Ni合金在ChCl-Urea低共熔溶剂中的成核机理符合三维瞬时成核;Zn比Ni后沉积,其过程是受扩散控制下的不可逆还原反应过程;该体系下可制得致密、呈菜花结构的镀层,Zn的含量高于Ni。