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题名复合氮化合物薄膜的研究
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作者
梁红樱
代燕芹
但秦
夏长秋
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机构
成都真锐科技涂层技术有限公司
成都工具研究所有限公司
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出处
《工具技术》
北大核心
2017年第6期48-51,共4页
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基金
"高档数控机床与基础制造装备"重大科技专项(2015ZX04005004)
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文摘
采用多源PVD技术在YG8硬质合金基体上分别沉积了Ti N和Ti NX薄膜,利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜以及多功能材料表面试验仪,研究了多种元素的添加对Ti N涂层微观结构、断口和表面形貌的影响。结果表明:添加多种元素可使Ti N涂层的微观结构发生明显变化,能有效控制膜的结晶和生长模式,改变传统的(111)面的单一取向,从原来的(111)的择优取向,转变为(200)、(111)、(220)共同取向;Ti NX涂层的断口呈非柱状结构,表面粗糙度小于Ti N,具有更为均匀致密的结晶结构和光整的表面形貌,趋于Ti Al N薄膜的显微硬度,一致的结晶组织结构、有效的沉积效率、良好的膜基结合力有利于厚膜Ti N的制备;相对于Ti N,寿命可提高50%-100%。
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关键词
多源PVD
TIN
复合氮化合物
物相结构
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Keywords
multi-source PVD
TiN
complex compounds
phase structure
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
TH140.7
[一般工业技术—材料科学与工程]
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