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Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构的电迁移
被引量:
4
1
作者
张金松
奚弘甲
+1 位作者
吴懿平
吴丰顺
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期174-178,共5页
采用Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构,在加载的电流密度为0.4×104A/cm2的条件下,得到了界面阴极处金属原子的电迁移.数值模拟揭示了其原因是由于凸点互连结构的特殊性,电子流在流经凸点时会发生流向改变进而形成电流聚集,此处的电流密...
采用Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构,在加载的电流密度为0.4×104A/cm2的条件下,得到了界面阴极处金属原子的电迁移.数值模拟揭示了其原因是由于凸点互连结构的特殊性,电子流在流经凸点时会发生流向改变进而形成电流聚集,此处的电流密度超过电迁移的门槛值,从而诱发电迁移.运用高对流系数的热传导方法降低了互连焊点的实际温度,在电迁移的扩展阶段显著减小了高温引起的原子热迁移对电迁移的干扰;因此电迁移力是原子迁移的主要驱动力.在电迁移的快速失效阶段,原子的迁移是热迁移和电迁移共同作用的结果:电迁移力驱动阴极处原子的迁移,造成局部区域的快速温升,从而加剧此处原子的热迁移.
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关键词
SnCu焊料
Ni-Cu层
电迁移
金属间化合物
下载PDF
职称材料
题名
Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构的电迁移
被引量:
4
1
作者
张金松
奚弘甲
吴懿平
吴丰顺
机构
武汉光电国家实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第1期174-178,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(批准号:60318002)~~
文摘
采用Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构,在加载的电流密度为0.4×104A/cm2的条件下,得到了界面阴极处金属原子的电迁移.数值模拟揭示了其原因是由于凸点互连结构的特殊性,电子流在流经凸点时会发生流向改变进而形成电流聚集,此处的电流密度超过电迁移的门槛值,从而诱发电迁移.运用高对流系数的热传导方法降低了互连焊点的实际温度,在电迁移的扩展阶段显著减小了高温引起的原子热迁移对电迁移的干扰;因此电迁移力是原子迁移的主要驱动力.在电迁移的快速失效阶段,原子的迁移是热迁移和电迁移共同作用的结果:电迁移力驱动阴极处原子的迁移,造成局部区域的快速温升,从而加剧此处原子的热迁移.
关键词
SnCu焊料
Ni-Cu层
电迁移
金属间化合物
Keywords
SnCu solder
Ni-Cu layer
electromigration
intermetallic compound
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Cu-Ni/Solder/Ni-Cu互连结构的电迁移
张金松
奚弘甲
吴懿平
吴丰顺
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
4
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