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激发功率对GaInNAs单量子阱材料的光致发光的影响
1
作者
莫敏.赛来
奥布力喀斯木.祖农
普拉提.艾合买提
《电子测试》
2018年第8期42-43,48,共3页
Ga(In)AsN材料是一种新颖的半导体材料,对其进行适当的n型掺杂后其能带可调,宽度可调范围为0.8-1.4eV,并且与Ge、GaAs衬底材料晶格匹配。这种独特的性能为新型光电器件的研发和应用提供了一个不可取代的候选材料。通过低温(T=10K)光致...
Ga(In)AsN材料是一种新颖的半导体材料,对其进行适当的n型掺杂后其能带可调,宽度可调范围为0.8-1.4eV,并且与Ge、GaAs衬底材料晶格匹配。这种独特的性能为新型光电器件的研发和应用提供了一个不可取代的候选材料。通过低温(T=10K)光致发光方法研究了激发功率密度对GaInNAs/GaAs单层子阱结构光致发光(PL)性能的影响。
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关键词
化合物半导体
希氮
光致发光
载流子浓度
激子
复合
束缚态
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职称材料
题名
激发功率对GaInNAs单量子阱材料的光致发光的影响
1
作者
莫敏.赛来
奥布力喀斯木.祖农
普拉提.艾合买提
机构
新疆大学物理科学与技术学院
出处
《电子测试》
2018年第8期42-43,48,共3页
基金
国家自然科学基金项目(11364041)
文摘
Ga(In)AsN材料是一种新颖的半导体材料,对其进行适当的n型掺杂后其能带可调,宽度可调范围为0.8-1.4eV,并且与Ge、GaAs衬底材料晶格匹配。这种独特的性能为新型光电器件的研发和应用提供了一个不可取代的候选材料。通过低温(T=10K)光致发光方法研究了激发功率密度对GaInNAs/GaAs单层子阱结构光致发光(PL)性能的影响。
关键词
化合物半导体
希氮
光致发光
载流子浓度
激子
复合
束缚态
Keywords
dilute nitride
photoluminescence
carrier concentration
exciton
recombination
bound state
quantum wells
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
激发功率对GaInNAs单量子阱材料的光致发光的影响
莫敏.赛来
奥布力喀斯木.祖农
普拉提.艾合买提
《电子测试》
2018
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