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用干涉方法测量薄膜应力
被引量:
6
1
作者
吴平
邱宏
+4 位作者
姜德怀
张蓓
陈森
赵雪丹
黄筱玲
《物理实验》
2006年第9期7-9,共3页
基于基片弯曲法和牛顿环的基本原理,使用He-Ne激光器、扩束镜、凸透镜和带分光镜的移测显微镜·搭建了薄膜应力测量装置,采用直流溅射法制备了厚度为30~144nm的银薄膜,衬底采用厚度为0.15mm、直径为18mm的圆形玻璃片,实验发现,薄...
基于基片弯曲法和牛顿环的基本原理,使用He-Ne激光器、扩束镜、凸透镜和带分光镜的移测显微镜·搭建了薄膜应力测量装置,采用直流溅射法制备了厚度为30~144nm的银薄膜,衬底采用厚度为0.15mm、直径为18mm的圆形玻璃片,实验发现,薄膜厚度对银薄膜的内应力有显著的影响,在薄膜厚度很小时,随着薄膜厚度的增加,应力迅速增大,达到最大值后,随着厚度的继续增加,薄膜应力下降较快并趋于稳定值.
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关键词
银薄膜
应力
基片弯曲法
牛顿环
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职称材料
低真空条件下制备的银薄膜的电阻率特性及结构
被引量:
3
2
作者
吴平
邱宏
+6 位作者
赵云清
姜德怀
张蓓
赵雪丹
黄筱玲
潘礼庆
田跃
《物理实验》
2007年第3期3-6,13,共5页
研究了在2.2 Pa低真空条件下用直流溅射法制备的银薄膜的电阻率特性和薄膜结构.实验表明,薄膜厚度对薄膜电阻率有显著影响,随膜厚的增加薄膜电阻率降低,在膜厚大于200 nm时趋于稳定,电阻率为2.54×10-8Ω.m.薄膜表面和晶粒间界对传...
研究了在2.2 Pa低真空条件下用直流溅射法制备的银薄膜的电阻率特性和薄膜结构.实验表明,薄膜厚度对薄膜电阻率有显著影响,随膜厚的增加薄膜电阻率降低,在膜厚大于200 nm时趋于稳定,电阻率为2.54×10-8Ω.m.薄膜表面和晶粒间界对传导电子的散射导致了银薄膜电阻率的尺寸效应.研究结果表明,可以在2.2 Pa的低真空条件下制备金属银薄膜,将银靶用于目前大学物理实验课中金属薄膜制备及金属薄膜电阻率测量实验是可行的.
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关键词
银薄膜
电阻率
结构
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职称材料
题名
用干涉方法测量薄膜应力
被引量:
6
1
作者
吴平
邱宏
姜德怀
张蓓
陈森
赵雪丹
黄筱玲
机构
北京科技大学应用科学学院物理系
出处
《物理实验》
2006年第9期7-9,共3页
基金
国家工科物理基础课程教学基地项目(2006)
北京科技大学教研基金项目(2006)
文摘
基于基片弯曲法和牛顿环的基本原理,使用He-Ne激光器、扩束镜、凸透镜和带分光镜的移测显微镜·搭建了薄膜应力测量装置,采用直流溅射法制备了厚度为30~144nm的银薄膜,衬底采用厚度为0.15mm、直径为18mm的圆形玻璃片,实验发现,薄膜厚度对银薄膜的内应力有显著的影响,在薄膜厚度很小时,随着薄膜厚度的增加,应力迅速增大,达到最大值后,随着厚度的继续增加,薄膜应力下降较快并趋于稳定值.
关键词
银薄膜
应力
基片弯曲法
牛顿环
Keywords
silver film
stress
curvature of substrate
Newton ring
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
O484.2 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
低真空条件下制备的银薄膜的电阻率特性及结构
被引量:
3
2
作者
吴平
邱宏
赵云清
姜德怀
张蓓
赵雪丹
黄筱玲
潘礼庆
田跃
机构
北京科技大学应用科学学院物理系
出处
《物理实验》
2007年第3期3-6,13,共5页
基金
北京科技大学国家工科物理基础课程教学基地项目
北京科技大学教研基金项目
中国高等教育学会"十一五"教育科学研究规划项目
文摘
研究了在2.2 Pa低真空条件下用直流溅射法制备的银薄膜的电阻率特性和薄膜结构.实验表明,薄膜厚度对薄膜电阻率有显著影响,随膜厚的增加薄膜电阻率降低,在膜厚大于200 nm时趋于稳定,电阻率为2.54×10-8Ω.m.薄膜表面和晶粒间界对传导电子的散射导致了银薄膜电阻率的尺寸效应.研究结果表明,可以在2.2 Pa的低真空条件下制备金属银薄膜,将银靶用于目前大学物理实验课中金属薄膜制备及金属薄膜电阻率测量实验是可行的.
关键词
银薄膜
电阻率
结构
Keywords
silver film
resistivity
structure
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用干涉方法测量薄膜应力
吴平
邱宏
姜德怀
张蓓
陈森
赵雪丹
黄筱玲
《物理实验》
2006
6
下载PDF
职称材料
2
低真空条件下制备的银薄膜的电阻率特性及结构
吴平
邱宏
赵云清
姜德怀
张蓓
赵雪丹
黄筱玲
潘礼庆
田跃
《物理实验》
2007
3
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职称材料
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引证文献
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