期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
后退火气氛对磁控溅射制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响
被引量:
2
1
作者
姬凯迪
高灿灿
+2 位作者
杨发顺
熊倩
马奎
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2021年第6期1056-1061,共6页
近年来,宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)越来越多地受到关注,在材料制备、掺杂、刻蚀等方面都有广泛研究。射频磁控溅射是常用的β-Ga_(2)O_(3)薄膜制备方法之一,后退火处理往往是提高薄膜质量的关键工艺步骤。本文研究后退火工艺中退...
近年来,宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)越来越多地受到关注,在材料制备、掺杂、刻蚀等方面都有广泛研究。射频磁控溅射是常用的β-Ga_(2)O_(3)薄膜制备方法之一,后退火处理往往是提高薄膜质量的关键工艺步骤。本文研究后退火工艺中退火温度和退火气氛对射频磁控溅射在C面蓝宝石基底上制备得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响。X射线衍射和原子力显微镜表征结果表明:在氮气气氛下退火,退火温度为1000℃时得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜质量较优;相同的温度下,氧气气氛退火比氮气气氛退火更有利于提升薄膜的结晶性能、降低表面粗糙度;在氧气气氛下,1000℃退火得到的薄膜质量相对比900℃退火得到的薄膜质量好。
展开更多
关键词
宽禁带半导体
β-Ga_(2)O_(3)
射频磁控溅射
退火氛围
结晶性能
表面粗糙度
下载PDF
职称材料
磁控溅射衬底加热温度和后退火温度对制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响
被引量:
3
2
作者
高灿灿
姬凯迪
+1 位作者
马奎
杨发顺
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2021年第2期296-301,309,共7页
作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热...
作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热温度的影响。溅射完成后通过高温退火处理提升薄膜质量,研究衬底加热温度和后退火温度对氧化镓薄膜晶体结构和表面形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等测试手段对β-Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌等进行分析表征。实验结果表明,随着衬底加热温度的升高,β-Ga_(2)O_(3)薄膜表面粗糙度逐渐降低,薄膜晶体质量得到显著提升;在氧气气氛中进行后退火,合适的后退火温度有利于氧化镓薄膜重新结晶、增大晶粒尺寸,能够有效修复薄膜的表面态和点缺陷,对于改善薄膜晶体质量有明显优势。
展开更多
关键词
β-Ga_(2)O_(3)薄膜
宽禁带半导体
磁控溅射
衬底加热温度
高温退火
晶体结构
表面形貌
下载PDF
职称材料
题名
后退火气氛对磁控溅射制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响
被引量:
2
1
作者
姬凯迪
高灿灿
杨发顺
熊倩
马奎
机构
贵州大学电子科学系
贵州省微纳电子与软件技术重点实验室
半导体功率器件可靠性教育部工程研究中心
出处
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2021年第6期1056-1061,共6页
基金
国家自然科学基金(61664004)
半导体功率器件可靠性教育部工程研究中心开放基金(ERCME-KFJJ2019-(01))。
文摘
近年来,宽禁带半导体材料β-Ga_(2)O_(3)越来越多地受到关注,在材料制备、掺杂、刻蚀等方面都有广泛研究。射频磁控溅射是常用的β-Ga_(2)O_(3)薄膜制备方法之一,后退火处理往往是提高薄膜质量的关键工艺步骤。本文研究后退火工艺中退火温度和退火气氛对射频磁控溅射在C面蓝宝石基底上制备得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响。X射线衍射和原子力显微镜表征结果表明:在氮气气氛下退火,退火温度为1000℃时得到的β-Ga_(2)O_(3)薄膜质量较优;相同的温度下,氧气气氛退火比氮气气氛退火更有利于提升薄膜的结晶性能、降低表面粗糙度;在氧气气氛下,1000℃退火得到的薄膜质量相对比900℃退火得到的薄膜质量好。
关键词
宽禁带半导体
β-Ga_(2)O_(3)
射频磁控溅射
退火氛围
结晶性能
表面粗糙度
Keywords
wide band gap semiconductor
β-Ga_(2)O_(3)
radio frequency magnetron sputtering
annealing atmosphere
crystallization property
surface roughness
分类号
O484 [理学—固体物理]
O47 [理学—半导体物理]
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射衬底加热温度和后退火温度对制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响
被引量:
3
2
作者
高灿灿
姬凯迪
马奎
杨发顺
机构
贵州大学电子科学系
贵州省微纳电子与软件技术重点实验室
半导体功率器件可靠性教育部工程研究中心
出处
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2021年第2期296-301,309,共7页
基金
国家自然科学基金(61664004)
半导体功率器件可靠性教育部工程研究中心开放基金(ERCME-KFJJ2019-(01))。
文摘
作为宽禁带半导体材料的一员,结构稳定的β-Ga_(2)O_(3)具有比SiC和GaN更宽的禁带宽度和更高的巴利加优值,近年来受到科研人员的广泛关注。本文采用射频(RF)磁控溅射法在C面蓝宝石衬底上生长β-Ga_(2)O_(3)薄膜,探究溅射过程中衬底加热温度的影响。溅射完成后通过高温退火处理提升薄膜质量,研究衬底加热温度和后退火温度对氧化镓薄膜晶体结构和表面形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等测试手段对β-Ga_(2)O_(3)薄膜晶体结构、表面形貌等进行分析表征。实验结果表明,随着衬底加热温度的升高,β-Ga_(2)O_(3)薄膜表面粗糙度逐渐降低,薄膜晶体质量得到显著提升;在氧气气氛中进行后退火,合适的后退火温度有利于氧化镓薄膜重新结晶、增大晶粒尺寸,能够有效修复薄膜的表面态和点缺陷,对于改善薄膜晶体质量有明显优势。
关键词
β-Ga_(2)O_(3)薄膜
宽禁带半导体
磁控溅射
衬底加热温度
高温退火
晶体结构
表面形貌
Keywords
β-Ga_(2)O_(3)thin film
wide band gap semiconductor
magnetron sputtering
substrate heating temperature
high temperature annealing
crystal structure
surface morphology
分类号
TB383.2 [一般工业技术—材料科学与工程]
TQ133.5 [化学工程—无机化工]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
后退火气氛对磁控溅射制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响
姬凯迪
高灿灿
杨发顺
熊倩
马奎
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2021
2
下载PDF
职称材料
2
磁控溅射衬底加热温度和后退火温度对制备β-Ga_(2)O_(3)薄膜材料的影响
高灿灿
姬凯迪
马奎
杨发顺
《人工晶体学报》
CAS
北大核心
2021
3
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部