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808nm垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺的研究
被引量:
2
1
作者
侯立峰
钟景昌
+3 位作者
孙俘
赵英杰
郝永芹
冯源
《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期209-213,共5页
为提高808 nm垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)的输出功率与电光转换效率,对其湿法氧化工艺进行了实验研究。采用扫描电镜(SEM)的微区分析功能,对样品氧化层按不同的氧化深度进行微区分析。微区分析结果表明:适当降低氧化温度,延长氧化...
为提高808 nm垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)的输出功率与电光转换效率,对其湿法氧化工艺进行了实验研究。采用扫描电镜(SEM)的微区分析功能,对样品氧化层按不同的氧化深度进行微区分析。微区分析结果表明:适当降低氧化温度,延长氧化时间,可减小氧化限制孔径的控制误差,提高氧化工艺的准确性;氧化后对样品进行高温加热处理,可减少氧化层中的As含量,改善氧化层的质量,提高氧化工艺的热稳定性。
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关键词
半导体技术
垂直腔面发射激光器
湿法氧化
氧化限制孔径
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职称材料
题名
808nm垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺的研究
被引量:
2
1
作者
侯立峰
钟景昌
孙俘
赵英杰
郝永芹
冯源
机构
长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室
装甲兵技术学院电子工程系
出处
《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期209-213,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60676059)
教育部新世纪优秀人才支撑计划资助项目(MCET-07-0122)
文摘
为提高808 nm垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)的输出功率与电光转换效率,对其湿法氧化工艺进行了实验研究。采用扫描电镜(SEM)的微区分析功能,对样品氧化层按不同的氧化深度进行微区分析。微区分析结果表明:适当降低氧化温度,延长氧化时间,可减小氧化限制孔径的控制误差,提高氧化工艺的准确性;氧化后对样品进行高温加热处理,可减少氧化层中的As含量,改善氧化层的质量,提高氧化工艺的热稳定性。
关键词
半导体技术
垂直腔面发射激光器
湿法氧化
氧化限制孔径
Keywords
semiconductor technique
vertical-cavity surface-emitting laser
wet oxidation
oxide-aperture
分类号
TN248.4 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
808nm垂直腔面发射激光器湿法氧化工艺的研究
侯立峰
钟景昌
孙俘
赵英杰
郝永芹
冯源
《兵工学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
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