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化学势在热力学与统计物理学中的作用 被引量:2
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作者 周小东 张云丽 孙现科 《周口师范学院学报》 CAS 2015年第2期53-57,共5页
在热力学与统计物理学中,化学势是一个非常重要的物理量,它在热力学和统计物理学两部分中均起到了非常重要的作用.本文由介绍化学势的概念引入,通过宏观和微观两种不同角度来阐述其物理含义.系统介绍了化学势在热力学部分和统计物理学... 在热力学与统计物理学中,化学势是一个非常重要的物理量,它在热力学和统计物理学两部分中均起到了非常重要的作用.本文由介绍化学势的概念引入,通过宏观和微观两种不同角度来阐述其物理含义.系统介绍了化学势在热力学部分和统计物理学部分中不同情况下的应用,加深对化学势物理含义的理解,从而突出化学势在热力学与统计物理学中的重要性. 展开更多
关键词 化学势 热力学 统计物理学
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Mn掺杂SiC基稀磁半导体薄膜的结构和磁性研究
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作者 孙现科 周小东 +3 位作者 周思华 王少辉 蒋卫华 孙春梅 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期45-49,共5页
目的从原子水平探究Mn掺杂SiC薄膜的磁性起源。方法采用射频磁控溅射技术制备不同掺杂浓度的Mn掺杂SiC薄膜,并采用X射线衍射技术、X光电子能谱、同步辐射X射线近边吸收精细结构技术、物理性质测试系统对薄膜的结构、组分和磁性能进行研... 目的从原子水平探究Mn掺杂SiC薄膜的磁性起源。方法采用射频磁控溅射技术制备不同掺杂浓度的Mn掺杂SiC薄膜,并采用X射线衍射技术、X光电子能谱、同步辐射X射线近边吸收精细结构技术、物理性质测试系统对薄膜的结构、组分和磁性能进行研究。结果晶体结构和成分分析表明,1200℃退火后的薄膜形成了3C-SiC晶体结构,且随着Mn掺杂浓度的增加,3C-SiC晶体的特征峰向低角度移动。在Mn掺杂浓度(以原子数分数计)为3%,5%,7%的薄膜中,掺杂的Mn原子以Mn2+的形式存在;而在9%Mn掺杂的SiC薄膜中,则有第二相化合物Mn4Si7形成。局域结构分析表明,薄膜中均不存在Mn金属团簇和氧化物,在3%,5%和7%Mn掺杂的薄膜中,掺杂的Mn原子主要以代替C位的形式进入3C-SiC晶格中,而在9%Mn掺杂的薄膜中,掺杂的Mn原子以C替位形式和Mn4Si7共存。磁性测试表明,制备的Mn掺杂SiC薄膜具有室温铁磁性,且饱和磁化强度随着Mn掺杂浓度的提高而增加。结论薄膜的室温铁磁性是本征的,磁性来源与掺杂的Mn原子以Mn2+取代SiC晶格中C位后导致的缺陷有关,符合缺陷导致的束缚磁极子机制。 展开更多
关键词 磁控溅射 SIC MN掺杂 铁磁性 缺陷
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新工科背景下地方高校多方协同人才培养改革
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作者 周思华 刘奎立 +3 位作者 郭艳花 孙现科 李健 朱欣颖 《周口师范学院学报》 CAS 2023年第2期138-140,共3页
原有人才培养模式不能适应新工科人才培养的需求。对现有校企合作育人的人才培养模式进行分析研究,根据实际存在的问题提出新工科背景下的多方协同育人模式,政府引导下第三方参与的协同育人模式能够解决各方的关切,提高了资源利用率,同... 原有人才培养模式不能适应新工科人才培养的需求。对现有校企合作育人的人才培养模式进行分析研究,根据实际存在的问题提出新工科背景下的多方协同育人模式,政府引导下第三方参与的协同育人模式能够解决各方的关切,提高了资源利用率,同时降低了企业的负担。初步形成了一个可操作的新工科人才培养的模式,可为地方高校开展协同育人的提供参考。 展开更多
关键词 人才培养模式 多方协同育人 新工科 地方高校
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基于师范类专业认证的课程目标达成度评价研究——以光学课程为例 被引量:17
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作者 李韶峰 杨静 +2 位作者 孙现科 王宇杰 李健 《周口师范学院学报》 CAS 2020年第2期77-81,共5页
基于师范类专业认证工作,对课程目标达成度评价进行了研究,以光学课程为例,展示直接评价和间接评价过程,并对两种评价结果进行对比分析,发现教学中存在的不足,提出改进措施,从而实现课程质量的持续改进.
关键词 师范类专业认证 课程目标 达成度 人才培养
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TiO_2 nanofilm growth by Ti ion implantation and thermal annealing in O_2 atmosphere
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作者 周小东 周思华 +1 位作者 孙现科 张云丽 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2015年第3期106-112,共7页
TiO2 nanofilms on surface of fused silica were fabricated by Ti ion implantation and subsequent thermal annealing in oxygen ambience. The silica glasses were implanted by 20 k V Ti ions to 1.5 × 1017ions/cm2 on a... TiO2 nanofilms on surface of fused silica were fabricated by Ti ion implantation and subsequent thermal annealing in oxygen ambience. The silica glasses were implanted by 20 k V Ti ions to 1.5 × 1017ions/cm2 on an implanter of metal vapor vacuum arc(MEVVA) ion source. Effects of annealing parameters on formation,growth and phase transformation of the TiO2 nanofilms were studied in detail. Optical absorption spectroscopy,Raman scattering spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, scanning electron microscopy and transmission electron microscopy measurements were done to figure out formation mechanism of the TiO2 nanofilms.The formation of TiO2 nanofilms was due to out-diffusion of the implanted Ti ions to the substrate surface,where they were oxidized into TiO2 nanoparticles. Formation, phase, and thickness of the TiO2 nanofilms can be well tailored by controlling annealing parameters. 展开更多
关键词 TiO2纳米薄膜 离子注入机 薄膜生长 氧气气氛 热退火 纳米TIO2薄膜 X射线光电子能谱 TIO2纳米粒子
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Co掺杂浓度对SiC薄膜磁性能的影响
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作者 郭艳花 周思华 +1 位作者 孙现科 周小东 《河南理工大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2020年第2期152-156,共5页
为了研究掺杂元素Co对SiC薄膜磁性影响,采用磁控溅射技术制备了不同Co含量的SiC薄膜。采用XRD、X光电子能谱和理性质测试系统对薄膜结构、成分和磁性进行表征。分析表明,薄膜具有3C-SiC晶体结构,随着掺杂元素Co增加,3C-SiC晶体特征峰向... 为了研究掺杂元素Co对SiC薄膜磁性影响,采用磁控溅射技术制备了不同Co含量的SiC薄膜。采用XRD、X光电子能谱和理性质测试系统对薄膜结构、成分和磁性进行表征。分析表明,薄膜具有3C-SiC晶体结构,随着掺杂元素Co增加,3C-SiC晶体特征峰向小角度移动。掺杂元素以Co 2+形式存在,形成CoSi第二相化合物,随着Co掺杂浓度增加,CoSi第二相化合物含量增多。磁性测试显示,掺有Co元素的SiC薄膜在室温下具有铁磁性,随着Co含量增加,薄膜的饱和磁化强度先增大后减小。掺杂Co原子进入SiC晶格后形成的缺陷是产生薄膜磁性的原因,属于掺杂缺陷诱导产生的铁磁性,而第二相化合物CoSi抑制了薄膜的铁磁性。 展开更多
关键词 SIC薄膜 CO掺杂 铁磁性 掺杂缺陷
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Si掺杂TiSiN涂层的结构特征及力学性能
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作者 周思华 周小东 +2 位作者 郭艳花 李韶峰 孙现科 《科学技术与工程》 北大核心 2018年第1期218-221,共4页
通过射频磁控溅射在单晶硅(111)和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层。采用双靶溅射技术,保持Ti靶功率不变,改变Si靶的功率以获得Si含量不同的TiSiN纳米复合涂层。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和显微硬度计表征T... 通过射频磁控溅射在单晶硅(111)和硬质合金衬底上制备Si掺杂的TiSiN纳米复合涂层。采用双靶溅射技术,保持Ti靶功率不变,改变Si靶的功率以获得Si含量不同的TiSiN纳米复合涂层。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和显微硬度计表征TiSiN涂层的结构、成分、形貌和硬度。研究结果表明,Si靶溅射功率对TiSiN涂层的结构和力学性能影响较大。随着Si靶溅射功率的增加,TiN晶粒特征峰由(111)向(200)转变,在20 W的Si靶溅射功率下(111)面取向最优。涂层厚度随着功率的增大呈现先增大后减小的趋势。Si以非晶相Si_3N_4的形式存在;随着Si含量的增加表面晶粒得到细化,在20 W的Si靶溅射功率下,涂层晶体生长致密光滑,涂层硬度高达2 600 HV。 展开更多
关键词 TiSiN涂层 Si掺杂 磁控溅射 纳米复合
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热退火对离子注入制备Au纳米颗粒生长和光学性能的影响
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作者 周小东 周思华 孙现科 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期186-190,共5页
利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机,将Au离子注入到高纯石英玻璃衬底中来制备Au纳米颗粒,Au离子注入的加速电压分别为20、40和60 k V,注入剂量为1×1017ions/cm2,随后将注入样品在普通管式退火炉中700~1000℃退火处理。... 利用金属蒸发真空多弧离子源(MEVVA源)注入机,将Au离子注入到高纯石英玻璃衬底中来制备Au纳米颗粒,Au离子注入的加速电压分别为20、40和60 k V,注入剂量为1×1017ions/cm2,随后将注入样品在普通管式退火炉中700~1000℃退火处理。研究了注入条件和热退火参数对Au纳米颗粒的形成、生长、分布以及光学性能的影响。采用光学吸收谱、扫描电子显微镜和透射电子显微镜对注入样品的光学性能、表面形貌和微观结构进行了测试和表征。实验结果表明,采用该低压离子注入结合热退火工艺的方法,所制备的Au纳米颗粒具有很强的局域表面等离子体共振特性,同时该方法也为制备尺寸和分布可控的Au纳米颗粒提供了一些新的参考途径。 展开更多
关键词 热退火 离子注入 Au纳米颗粒 生长 光学性能
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Room temperature ferromagnetism of nonmagnetic element Ca-doped LiNbO_3 films
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作者 刘华蕊 李敏 +5 位作者 孙鹏 王诗琪 金鑫 孙现科 安玉凯 刘技文 《Optoelectronics Letters》 EI 2014年第2期115-118,共4页
The nonmagnetic element Ca-doped LiNbO3 films were prepared on Si(111) substrates by radio frequency(RF) magnetron sputtering technique. X-ray diffraction(XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) indicate that t... The nonmagnetic element Ca-doped LiNbO3 films were prepared on Si(111) substrates by radio frequency(RF) magnetron sputtering technique. X-ray diffraction(XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) indicate that the Ca atoms enter the LiNbO3 lattice in the form of Ca2+ ions. Superconducting quantum interference device(SQUID) results show that the Ca-doped LiNbO3 films have room-temperature ferromagnetism and a maximum saturation magnetization of 4800 A/m at the 3% of Ca atom doping concentration. The room temperature ferromagnetism of the Ca-doped LiNbO3 films can be attributed to the occurrence of vacancies due to Ca doping and is the intrinsic property. 展开更多
关键词 铌酸锂薄膜 钙掺杂 铁磁性 非磁性 室温 元素 SI(111)衬底 LiNbO3薄膜
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