射频磁控溅射法制备TiB_2涂层及其性能分析

利用射频磁控溅射技术在硅和钢片上沉积了TiB2涂层。采用场发射电子扫描显微镜(FESEM),小掠射角x射线衍射(GAXRD)及X射线光电子能谱(XPS)分别研究了涂层的横截面形貌,晶体结构以及涂层中的元素和化学状态。同时,对涂层的显微硬度和残余应力进行了表征。结果表明,利用射频磁控溅射法制备的TiB2涂层平整光滑,结构致密,沿[001]晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,而且残余压应力较低。

TiB_2和Ti-B-N涂层的性能对比研究

用磁控溅射法在1Cr18Ni9Ti不锈钢上沉积了TiB2和Ti-B-N涂层。用场发射电子扫描显微镜(FESEM)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了涂层的结构与形貌,并对涂层的显微硬度进行了检测分析。研究表明:通入N2后,Ti-B-N涂层变得更为光滑平整,涂层结构由纳米柱状晶转为非晶结构,显微硬度降低。在室温无润滑条件下,检测了涂层的耐磨性能,结果表明Ti-B-N涂层的摩擦系数低于TiB2涂层,但涂层的耐磨性并没有得到提高。

纳米结构TiB_2涂层的制备及性能

利用射频磁控溅射技术在冷作模具钢片上沉积了TiB2涂层。分别采用场发射扫描电子显微镜和小掠射角X射线衍射方法研究了涂层横截面的形貌和晶体结构,并对涂层的纳米硬度和摩擦性能进行了表征。结果表明,TiB2涂层的厚度均匀,结构致密,沿(001)晶向择优生长,具有纳米晶结构,硬度显著提高,耐磨性能好。

Ti-B-C-N系超硬涂层的研究进展

Ti-B-C-N系超硬涂层因具有优异的物理、化学、机械等综合性能而备受关注。介绍了Ti-B-C-N系超硬涂层的制备方法和近年来取得的研究成果，重点是TiB2、Ti-B-N、Ti-B-C-N单层膜和纳米复合膜的研究，并分析了纳米复合膜在使用过程中存在的问题，指出了其发展方向。

射频磁控溅射超硬TiB2薄膜的T区结构特征

用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长。当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,抗塑性变形的能力为0.65 GPa。加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降。扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts/Tm=0.18时,薄膜中出现"等轴"结构。