硫酸钠在浮法玻璃生产中的应用及作用机理研究进展

在浮法玻璃生产中硫酸钠通常与还原剂一起作为澄清剂使用。研究硫酸盐在玻璃生产过程中的反应机理对探索玻璃形成与澄清机理、提高浮法玻璃质量具有重要意义。本文综述了近年来对硫酸盐在玻璃熔窑和锡槽中的研究进展。首先论述了硫酸钠在玻璃熔化、澄清过程中的物理化学变化和澄清机理,包括硫酸盐与碳的反应和气泡形成长大和收缩过程;其次讨论了玻璃熔体进入锡槽后,由于气氛的改变及残余硫酸钠价态的变化,以及对玻璃上下表面和锡液的影响。

固态全无机电致变色器件透过光谱计算与测试

利用椭圆偏振仪拟合得到的褪色态电致变色层WO3、着色态电致变色层LixWOy、离子传导层Ta2O5、离子存储层NixO、Si O2薄膜折射率与消光系数,通过TFCalc光学设计软件计算器件褪色态、着色态透过光谱。发现波长550 nm处,理论器件变色幅度可以达到66.9%,大于实际测试光谱的56.7%(施加电压±5 V);通过增加减反层,可以进一步提高器件变色幅度至77.7%。

玻璃粘度与温度关系研究发展现状

本文综述了玻璃粘度与温度关系的描述方法,介绍了各个公式的优缺点。虽然John C.Mauroa,Yuanzheng Yue等人在提出的Mauro-Yue公式跟VFT公式、AG和AV公式一样都有三个参量,但是该公式克服了VFT公式和AV公式在低温下存在很大的系统误差的问题,而且对有机物和无机物液体的粘温关系都可以描述。

CaO-Al_2O_3-SiO_2-F系统玻璃密度与结构关系研究

采用传统熔融冷却法制备了CaO-Al2O3-SiO2-AlF3(A系列)和CaO-Al2O3-SiO2-CaF2(C系列)系统玻璃,在其组成范围SiO2>45mol%、Ca/Al>1(mol)、F/Al<1(mol)内,利用Doweidar密度模型在CaO-Al2O3-SiO2-F系统玻璃A系列和C系列中分别得到AlO3F四面体的体积,其值可认为是一常数VAl-f=57.82×10-24cm-3,与引入氟的形式(CaF2或AlF3)和化学计量浓度的改变无关;AlO4四面体的体积大于AlO3F四面体体积(VAl-f>VAl-o),分析认为这与质点间的键力发生改变有关(fAl-f<fAl-0),键力越小,质点间的距离越大,使VAl-f变大。由此模型得到的CaO-Al2O3-SiO2-F玻璃理论计算密度值与实际测量密度值基本相符,误差小于0.03%。

CaO-Al_2O_3-SiO_2-F玻璃的红外光谱和热膨胀行为

采用传统熔融冷却法制备了CaO-Al2O3-SiO2-AlF3(A系列)和CaO-Al2O3-SiO2-CaF2(C系列)系统玻璃。利用傅立叶红外光谱(FTIR)研究了氟对玻璃结构的影响,使用最小二乘曲线拟合法对第1谱带分峰拟合,并对次强谱带的弯曲振动分类,分析了各组振动与氟的关系。另外通过玻璃的热膨胀行为分析了氟对玻璃软化温度和热膨胀系数的影响。结果表明,氟在A系列和C系列中玻璃的结构变化不大,氟主要与铝生成Al-F键作为网络形成体存在,氟含量最大的A4中生成[AlO3F]四面体和[AlO2F2]四面体;氟含量增加,A系列和C系列的软化温度(Tf)都会降低,而热膨胀系数变化不大。

一种新的消影透明导电薄膜膜系

利用Matlab编程,通过增加约束条件,优化计算得到ZnO、Si_3N_4、SiNO_(1/2)分别替代Nb_2O_5膜层的氧化铟掺锡(ITO)消影膜膜系。研究发现替代后的膜系透过率(大于85%)、颜色值(透过、反射光谱颜色呈中性),满足消影膜的要求。新的膜系降低了对膜系厚度的控制要求;扩展了消影膜系对高折射率材料的选择范围。

冷等离子体射流处理后的K9玻璃力学性能试验研究

为探究冷等离子体射流辅助处理K9玻璃的高效超精密切削的机理,用摩擦磨损试验机探究冷等离子体射流对K9玻璃/金刚石摩擦副摩擦磨损性能的影响;用万能试验机测试等离子体处理后的石英玻璃棒的弯曲强度;通过压痕和划痕试验得出材料的弹塑转变及塑脆转变的临界载荷。结果表明:射流对脆性材料力学性能的调控效果可保持20 h以上;经过冷等离子体处理后的K9玻璃,在加载过程中剪切力及正压力比较平稳,摩擦系数在0.09~0.12波动,变化不明显;冷等离子体射流对K9玻璃/金刚石摩擦副具有减摩作用,且可降低K9玻璃的弹塑转变临界载荷,延缓脆性材料受力产生塑脆转变断裂,增强材料塑性并降低其脆性。

直方图法在薄膜厚度测量上的适用性研究

薄膜厚度是薄膜测试领域中非常重要的参数。利用直方图法处理触针式轮廓仪测试数据(标准样品、制备样品)得到台阶高度,是获取薄膜厚度的方法之一。通过对样品的台阶高度、椭偏测试计算结果的对比分析,发现直方图法能够有效避免人为因素的影响,适用于10nm以上的薄膜厚度的测量,是目前最适于定为薄膜厚度测试标准的方法。

硫酸盐在浮法玻璃中的澄清机理研究进展

硫酸钠在浮法玻璃生产中通常与还原剂一起作为澄清剂使用。本文综述了近年来对硫酸盐在玻璃熔窑中的研究进展。阐述了硫酸钠在玻璃熔化、澄清过程中的物理化学变化和澄清机理；研究硫化合物在玻璃生产过程中的反应机理对探索玻璃形成与澄清机理、提高浮法玻璃质量具有重要意义。

固态全无机电致变色器件透过光谱计算与测试

利用椭圆偏振仪拟合得到的褪色态电致变色层WO3、着色态电致变色层LixWOy、离子传导层Ta2O5,离子存储层NixO、SiO2;薄膜折射率与消光系数,通过TFCalc光学设计软件计算器件褪色态、着色态透过光谱。发现波长550nm处,理论器件变色幅度可以达到66.9%,大于实际测试光谱的56.7%(施加电压±5V);通过增加减反射层,可以进一步提高器件变色幅度至77.7%。

直方图法在薄膜厚度测量上的应用研究

薄膜厚度是薄膜测试领域中非常重要的参数，利用直方图法处理触针式轮廓仪测试数据（标准样品、制备样品）得到台阶高度，是获取薄膜厚度的方法之一。通过对样品的台阶高度、椭偏测试计算结果的对比分析，发现直方图法能够有效避免人为因素的影响，适用于10nm以上的薄膜厚度的测量，是目前最适于定为薄膜厚度测试标准的方法.

钠钙硅玻璃表面硫的扩散研究

利用二次离子质谱仪（SIMS）得到钠钙硅玻璃上下表面硫的含量分布。根据菲克第二定律，理论推导得到S^6＋和S^2-的扩散模型，通过对硫含量分布的拟合发现该模型可以很好地反映玻璃上下表面硫（S^6＋和S^2-）的分布。拟合计算得到S6~扩散系数的数量级为-16，S^2-扩散系数的数量级为-19；下表面S^6＋和S^2-的扩散系数均大于上表面，这与玻璃上下表面接触的介质有关，锡更有利于硫的扩散。

玻璃粘度、构型熵、温度之间的关系

采用传统熔融法制备CaO-AlO3mSiO2-AlF3玻璃，利用旋转法测量玻璃熔体在一定冷却速度下的粘度，利用差示扫描量热法测量玻璃转变温度。根据测量的粘度与温度关系和样品的玻璃转变温度，通过将Avramov（AV）公式和Mauro—Yue—Ellison—Gupta—Mlan（MYEGA）公式带入Adam＆Gibbs（AG）公式中得到构型熵与温度的关系。研究了玻璃粘度、构型熵、温度之间的关系。研究发现Av公式和MYEGA＆式在温度趋向于0K时，均避免了熵灾难的发生；高温时，AV公式推导得出的熵与温度呈指数关系，与实际不符，MYEGA公式对高温段熵的拟合更为准确。

不同截止频率下轨道不平顺对车辆垂向振动的影响

为研究地铁车辆在不同波长不平顺轨道上的乘坐舒适性,通过模拟轨道不平顺的时域样本,分析了不同截止频率下轨道不平顺样本对车辆垂向振动的影响,得出了轨道不平顺频率或波长对地铁车辆运行舒适性的影响及规律。结果表明,从抑制车体垂向振动的角度出发,应严格控制10m～30m波长的轨道不平顺。

数控机床故障的检测与维修

数控机床是一种装有程序控制系统的自动化机床。该控制系统能够逻辑地处理具有控制编码或其他符号指令规定的程序,并将其译码,从而使机床动作加工零件。数控机床含盖了自动化技术、计算机技术、伺服驱动、精密测量和精密机械等各个领域的技术成果,是一门新兴的工业控制技术。随着国内数控机床的迅速发展,数控机床的应用普及,数控机床出现故障高发时段。然而,目前的数控维修工作混乱无序,根本不能适应数控行业快速发展的步伐。为了使数控维修工作适应现代化制造业的发展,提高数控设备维修质量,那么规范数控维修行业,已经迫在眉睫。不同的数控系统尽管在性能和构成上有所不同,但在故障诊断上还是有它的共同点的,现联系实际工作谈一下数控系统故障分析和维修的一般方法。

基于斜投影变换研究画法几何中相贯线图解

在画法几何中,相贯线普遍被认为是难点。在求其投影时往往用辅助面法,通过2组截交线的交点求出相贯线上的点。由于相贯线本身形状复杂,所以作图更显繁锁。通过平面立体与平面立体相交,曲面立体与曲面立体相交的实例,重点研究画法几何中相对难度大、作图繁杂的相贯线的图解方法,给出三棱锥K-DEF与三棱柱的相贯线、斜置椭圆柱面与环面的相贯线。实践证明,只要根据作图需要选择投影面和投射方向,使其处于有利解题的位置,再利用斜投影法只需一次变换即可求得相贯线。该方法能够将工程图学中用正投影方法多次投影变换才能解决的图示、图解问题仅做一次投影变换解决,相对其他方法灵活、简单。

玻璃熔制过程耗热的计算与测量研究进展

随着地球资源的日益枯竭,世界环境的不断恶化,绿色制造已成为中国乃至世界经济发展的必然选择。玻璃制造业是能源密集型产业,在平板玻璃制造的全过程中,熔化和澄清阶段能耗占全部能耗的一半以上,因此,熔化和澄清是玻璃工业节能研究的关键领域。本文概述了玻璃熔制能耗的计算与测量方面的研究进展,总结了其成果,分析了其局限性,并就以后科研工作和实践探索的方向提出几点建议。

块体非晶合金氧化性能的研究进展

为了在较高的温度下使用非晶态合金,采用等温热处理的方法研究了锆基、铁基和铜基块体非晶合金在玻璃态转变温度Tg到晶化温度Tx空气中的氧化行为。三类块体非晶合金在等温下的氧化速率规律遵循抛物线规律,且氧化速率随温度的升高而增加。氧化层的物相组成与温度及组成元素有关,并综述了氧化层的形成机理。

用投影变换方法解决画法几何问题的研究

介绍换面法、旋转法和斜投影法等三种投影变换方法,并分析各自的画法特点,指出每种方法可解决的画法几何类型题,并进一步总结出每一种投影方法最适合解决的类型题.

电致变色器件中WO3薄膜厚度的选择

WO3(三氧化钨)薄膜厚度的选择对电致变色器件性能有至关重要的作用。通过TFCalc软件理论计算WO3薄膜褪色态、着色态透过光谱及其光学调制幅度变化;通过在FTO(氧化锡掺氟)玻璃上制备氧化钨薄膜,研究分析不同厚度氧化钨晶体结构与光学调制幅度相关性。对比研究发现:WO3厚度的选择应根据着色态透过率和实际的光学调制幅度确定,光学理论计算WO3薄膜的调制幅度有一定的局限性,这与晶态WO3薄膜的结构发生变化有关。