采用等离子增强化学气相沉积(Plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)方法在C/C复合材料表面制备碳纳米管,探究了催化剂溶液浓度、碳纳米管生长温度、生长时间、气体压强、气体流量等工艺参数对碳纳米管生长的影响。通过拉...采用等离子增强化学气相沉积(Plasma enhanced chemical vapor deposition,PECVD)方法在C/C复合材料表面制备碳纳米管,探究了催化剂溶液浓度、碳纳米管生长温度、生长时间、气体压强、气体流量等工艺参数对碳纳米管生长的影响。通过拉曼光谱、扫描电子显微镜、透射电子显微镜等技术对制备的碳纳米管进行表征,最佳工艺参数下所生长的碳纳米管为多壁碳纳米管,碳纳米管壁的层数约15层,碳纳米管直径和长度分别为约18.9 nm和约2.5μm。将C/C复合材料与Nb和Ti600两种金属进行钎焊连接,对有无碳纳米管的钎焊接头进行分析,发现表面生长碳纳米管有利于提高钎料润湿性,钎焊接头强度也有所提高。展开更多