获得精细通孔图形的光刻技术改进(英文)

为了获得更高性能的TFT—LCD面板，在光刻时保证精细的图形成像十分重要，其中，如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提供的研究中，我们只简单地改变了一下烘烤工艺，而不需要改变Eop和显影时间，就可以将通孔图形的尺寸减小20％～25oA。在后续的刻蚀工艺中，通孔的尺寸能显著减小。