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ULSI/GLSI低Na CMP浆料的纯化效率
被引量:
1
1
作者
甘小伟
刘玉岭
+3 位作者
何彦刚
李伟娟
王娟
宋洵奕
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011年第10期669-673,共5页
采用离子交换法去除ULSI/GLSI CMP浆料SiO2水溶胶中的Na+。介绍了微电子专用CMP SiO2水溶胶纯化的研究现状。实验分析了SiO2水溶胶中Na+与阳离子树脂的交换机理,硅溶胶中Na+去除分为硅溶胶溶液中Na+的去除和被硅溶胶胶团吸附Na+的去除...
采用离子交换法去除ULSI/GLSI CMP浆料SiO2水溶胶中的Na+。介绍了微电子专用CMP SiO2水溶胶纯化的研究现状。实验分析了SiO2水溶胶中Na+与阳离子树脂的交换机理,硅溶胶中Na+去除分为硅溶胶溶液中Na+的去除和被硅溶胶胶团吸附Na+的去除。在交换动态平衡时,动态交换1 h较静态交换24 h生产效率提高了20多倍。同时阳1-阳1、阳2-阳1、阳3-阳1、阳1-阴1-阳1等离子交换工艺均能得到很好的纯化效果CNa+<5×10-6,不仅循环利用了树脂,而且酸碱耗量减少了50%以上。同时纯化硅溶胶配成碱性抛光液在硅片CMP应用中取得良好的结果。
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关键词
化学机械平坦化技术(CMP)
浆料
纯化
离子交换
NA^+
下载PDF
职称材料
题名
ULSI/GLSI低Na CMP浆料的纯化效率
被引量:
1
1
作者
甘小伟
刘玉岭
何彦刚
李伟娟
王娟
宋洵奕
机构
河北工业大学微电子技术研究所
河北工业大学化工学院
河北工业大学信息工程学院
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011年第10期669-673,共5页
基金
国家中长期发展规划重大专项项目(2009ZX02308)
文摘
采用离子交换法去除ULSI/GLSI CMP浆料SiO2水溶胶中的Na+。介绍了微电子专用CMP SiO2水溶胶纯化的研究现状。实验分析了SiO2水溶胶中Na+与阳离子树脂的交换机理,硅溶胶中Na+去除分为硅溶胶溶液中Na+的去除和被硅溶胶胶团吸附Na+的去除。在交换动态平衡时,动态交换1 h较静态交换24 h生产效率提高了20多倍。同时阳1-阳1、阳2-阳1、阳3-阳1、阳1-阴1-阳1等离子交换工艺均能得到很好的纯化效果CNa+<5×10-6,不仅循环利用了树脂,而且酸碱耗量减少了50%以上。同时纯化硅溶胶配成碱性抛光液在硅片CMP应用中取得良好的结果。
关键词
化学机械平坦化技术(CMP)
浆料
纯化
离子交换
NA^+
Keywords
chemical mechanical planarization (CMP)
slurry
purification
ion exchange
Na^+
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
ULSI/GLSI低Na CMP浆料的纯化效率
甘小伟
刘玉岭
何彦刚
李伟娟
王娟
宋洵奕
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2011
1
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