紫外正性光致抗蚀剂的研究进展及应用现状

酚醛树脂-重氮萘醌型正性光致抗蚀剂主要适用于436nm（G线）-365nm（Ⅰ线）的紫外曝光区域，是目前电子和PS版工业中使用最多的正性抗蚀材料。本文介绍了近年来该类抗蚀剂的国内外进展情况，并对其各个组分进行了归纳综述。

两步法合成正性光致抗蚀剂用酚醛树脂的研究

第一步在甲醛过量的条件下合成2,6-双羟甲基对甲酚预聚体;第二步在无甲醛条件下,通过调节摩尔比、反应时间等实验条件,合成出结构交替的光致抗蚀剂用酚醛树脂。

可溶性聚酰亚胺研究进展

归纳了通过分子设计合成可溶性聚酰亚胺的7种主要方法,一是在聚合物主链中引入柔性结构单元,二是在聚酰亚胺链中引入大的侧基或侧链,三是在聚酰亚胺链中引入三氟甲基取代基,四是在聚酰亚胺链中引入扭曲的非共平面结构,五是通过共聚合反应等手段改善聚酰亚胺的溶解性,六是在聚合物主链中引入酰胺结构,七是合成超枝化的聚酰亚胺。