一种解决压延铜箔电镀后表面粗糙问题的微蚀液

压延铜箔是通过对铜锭的反复轧制-退火工艺而成的,其铜原子呈不规则层状结晶,导致压延铜箔在后续的电镀铜过程中容易产生表面粗糙的问题。压延铜箔通常用于挠性线路板,线路表面越粗糙,则电阻越大,相应的信号延迟越大,信号质量越差。本文研制了一种用于化学镀铜前处理工艺的微蚀液,改变压延铜箔的表面形貌,提高电镀后铜箔表面平整度,形成的表面粗糙度(Ra)低于50 nm,表面轮廓最大高度(Rz)低于200 nm,为后续工艺打下良好基础。

工艺参数对316L不锈钢电解抛光效果的影响

通过正交试验确定了316L不锈钢电解抛光工艺的最佳温度和抛光液流速,并在此基础上通过单因素实验研究了电流密度和抛光时间对抛光表面特性的影响。结果表明,随抛光时间延长或电流密度增大,316L不锈钢的表面粗糙度先减小后增大。在温度60℃、电流密度45 A/dm^(2)、抛光液流速800 mL/min的条件下抛光90 s时,316L不锈钢表面平整、均匀,缺陷最少,表面粗糙度(Ra)低至0.051μm。电解抛光后316L不锈钢表层富Fe氧化物被有效去除,形成富含Cr_(2)O_(3)的钝化膜,具有更好的耐蚀性。