Cr光栅掩模对金属平板超透镜成像质量的影响

利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为"物"的Cr光栅掩模厚度、占空比对超透镜成像质量的影响.研究结果表明:成像系统的对比度随光栅掩模厚度的增加而增大,当厚度大于50 nm,达到一个稳定值;在相同掩模厚度下,成像系统的像平面随着光栅线宽W的增加而变远;在相同厚度变化范围内,W越大,对比度的变化范围(△C)和像平面位置的变化范围(△y)也都越大,但前者变化更大.研究表明:Cr光栅掩模的厚度、占空比对成像质量有明显的影响.

一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究

介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与反应离子束刻蚀工艺的优化,得到加工二维石英点阵的最优制备工艺。利用扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)对制备二维纳米图形结构进行表征与分析,并利用紫外可见光分光光度计对制备的二维点阵结构图形进行紫外透过率测试,发现加工的二维结构在365nm处的透过率仍大于90%,符合紫外固化纳米印掩模板对紫外光高透过率的要求。