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Cr光栅掩模对金属平板超透镜成像质量的影响
1
作者
王诗琴
宫云志
+6 位作者
吕厚祥
刘贤超
郑杰
张涛
谢征微
陈卫东
李玲
《四川师范大学学报(自然科学版)》
CAS
北大核心
2015年第2期259-263,共5页
利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为"物"的Cr光栅掩模厚度、占空比对超透镜成像质量的影响.研究结果表明:成像系统的对比度随光栅掩模厚度的增加...
利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为"物"的Cr光栅掩模厚度、占空比对超透镜成像质量的影响.研究结果表明:成像系统的对比度随光栅掩模厚度的增加而增大,当厚度大于50 nm,达到一个稳定值;在相同掩模厚度下,成像系统的像平面随着光栅线宽W的增加而变远;在相同厚度变化范围内,W越大,对比度的变化范围(△C)和像平面位置的变化范围(△y)也都越大,但前者变化更大.研究表明:Cr光栅掩模的厚度、占空比对成像质量有明显的影响.
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关键词
金属平板超透镜
光栅掩模
成像质量
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职称材料
一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究
2
作者
郑杰
李玲
+3 位作者
吕厚祥
王诗琴
宫云志
刘贤超
《中国测试》
北大核心
2015年第S1期1-5,共5页
介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与...
介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与反应离子束刻蚀工艺的优化,得到加工二维石英点阵的最优制备工艺。利用扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)对制备二维纳米图形结构进行表征与分析,并利用紫外可见光分光光度计对制备的二维点阵结构图形进行紫外透过率测试,发现加工的二维结构在365nm处的透过率仍大于90%,符合紫外固化纳米印掩模板对紫外光高透过率的要求。
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关键词
激光干涉光刻
等离子体刻蚀
纳米结构
紫外可见光分光光度计
紫外透过率
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职称材料
题名
Cr光栅掩模对金属平板超透镜成像质量的影响
1
作者
王诗琴
宫云志
吕厚祥
刘贤超
郑杰
张涛
谢征微
陈卫东
李玲
机构
四川师范大学物理与电子工程学院
出处
《四川师范大学学报(自然科学版)》
CAS
北大核心
2015年第2期259-263,共5页
基金
中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室开放课题(C2013-065)资助项目
文摘
利用有限元法并结合射频磁控溅射法制备不同厚度Cr膜的透光率的研究,模拟了金属平板超透镜近场成像特性.研究了作为"物"的Cr光栅掩模厚度、占空比对超透镜成像质量的影响.研究结果表明:成像系统的对比度随光栅掩模厚度的增加而增大,当厚度大于50 nm,达到一个稳定值;在相同掩模厚度下,成像系统的像平面随着光栅线宽W的增加而变远;在相同厚度变化范围内,W越大,对比度的变化范围(△C)和像平面位置的变化范围(△y)也都越大,但前者变化更大.研究表明:Cr光栅掩模的厚度、占空比对成像质量有明显的影响.
关键词
金属平板超透镜
光栅掩模
成像质量
Keywords
metal superlens
grating mask
image quality
分类号
O43 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究
2
作者
郑杰
李玲
吕厚祥
王诗琴
宫云志
刘贤超
机构
四川师范大学物理与电子工程学院
出处
《中国测试》
北大核心
2015年第S1期1-5,共5页
基金
中国科学院光电技术研究所微细加工国家重点实验室开放基金项目(KFS4)
文摘
介绍一种采用紫外(363.8nm)激光干涉光刻得到大面积二维纳米点阵结构的方法,该技术具有操作简单、光路搭建成本低、可以大面积加工微纳图形结构等优点;并利用等离子体刻蚀传递,获得周期为200nm的二维石英纳米点阵结构。通过光刻工艺与反应离子束刻蚀工艺的优化,得到加工二维石英点阵的最优制备工艺。利用扫描电子显微镜(SEM)与原子力显微镜(AFM)对制备二维纳米图形结构进行表征与分析,并利用紫外可见光分光光度计对制备的二维点阵结构图形进行紫外透过率测试,发现加工的二维结构在365nm处的透过率仍大于90%,符合紫外固化纳米印掩模板对紫外光高透过率的要求。
关键词
激光干涉光刻
等离子体刻蚀
纳米结构
紫外可见光分光光度计
紫外透过率
Keywords
laser interference lithography
plasma etching
nanostructure
ultraviolet visible light spectrophotometer
UV transmittance
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Cr光栅掩模对金属平板超透镜成像质量的影响
王诗琴
宫云志
吕厚祥
刘贤超
郑杰
张涛
谢征微
陈卫东
李玲
《四川师范大学学报(自然科学版)》
CAS
北大核心
2015
0
下载PDF
职称材料
2
一种大面积二维石英纳米结构制备的工艺研究
郑杰
李玲
吕厚祥
王诗琴
宫云志
刘贤超
《中国测试》
北大核心
2015
0
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职称材料
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