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6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响
被引量:
4
1
作者
路家斌
熊强
+2 位作者
阎秋生
王鑫
宾水明
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2019年第3期29-37,共9页
研究紫外光辅助催化抛光6H-SiC单晶。用分光光度法定性检测不同光催化反应时间下甲基橙颜色变化和羟基自由基(·OH)浓度,研究无光照、光照抛光盘、光照抛光液3种光照方式及金刚石、碳化硅、二氧化硅、二氧化钛、硅溶胶5种磨料对6H-...
研究紫外光辅助催化抛光6H-SiC单晶。用分光光度法定性检测不同光催化反应时间下甲基橙颜色变化和羟基自由基(·OH)浓度,研究无光照、光照抛光盘、光照抛光液3种光照方式及金刚石、碳化硅、二氧化硅、二氧化钛、硅溶胶5种磨料对6H-SiC单晶抛光的影响。结果表明:随着光照时间增加,·OH浓度增加;在3种光照方式下,不同磨料的材料去除率(MRR)均呈现光照抛光液>光照抛光盘>无光照的规律,且光照抛光液时的MRR比无光照时的MRR提升了18%~58%。随磨料硬度降低,光催化辅助作用对MRR的提高幅度升高,即紫外光催化辅助作用越明显;金刚石、碳化硅、二氧化硅、硅溶胶4种磨料抛光后的表面粗糙度都随MRR的增大而减小,但二氧化钛磨料的则相反,原因是二氧化钛磨料同时兼作光催化剂,增强了SiC表面的化学反应速率,使其化学反应速率大于机械去除速率。
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关键词
紫外光催化辅助抛光
6H-SiC单晶
羟基自由基
光照方式
磨料
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职称材料
磁场分布对多磨头磁流变抛光材料去除的影响
被引量:
3
2
作者
路家斌
宾水明
+2 位作者
阎秋生
黄银黎
熊强
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期20-26,共7页
为研究磁场分布对材料去除的影响,设计轴向充磁异向排布、轴向充磁同向排布、径向充磁异向排布、径向充磁同向排布4种磁铁充磁和排布方式,利用有限元软件Maxwell仿真不同磁场的磁力线分布及抛光轮表面的磁感应强度分布,并采用数字特斯...
为研究磁场分布对材料去除的影响,设计轴向充磁异向排布、轴向充磁同向排布、径向充磁异向排布、径向充磁同向排布4种磁铁充磁和排布方式,利用有限元软件Maxwell仿真不同磁场的磁力线分布及抛光轮表面的磁感应强度分布,并采用数字特斯拉计测量实际磁感应强度。对单晶硅基片进行定点抛光试验,检测抛光斑沿抛光轮轴向的去除轮廓及峰值点的表面形貌。仿真和实际磁感应强度检测结果表明,不同磁场分布方式对抛光区的磁场分布有很大影响,磁铁轴向充磁同向排布与径向充磁异向排布时,具有较高的磁场强度和较好的多磨头效果。定点抛光试验表明,采用轴向充磁同向排布与径向充磁异向排布这两种方式时,能实现多点加工,其中轴向充磁同向排布时加工效率较高;但采用径向充磁同向排布时,由于抛光区磁感应强度较低,磁流变微磨头无法对工件进行有效地抛光。峰值点表面形貌检测结果表明,采用不同磁场分布方式时,对工件表面均是以塑性去除方式去除。研究表明,通过优化磁铁充磁和排布方式,可实现多磨头磁流变抛光的加工原理。
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关键词
多磨头
磁流变抛光
磁场分布
材料去除
磁感应强度
塑性去除
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职称材料
题名
6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响
被引量:
4
1
作者
路家斌
熊强
阎秋生
王鑫
宾水明
机构
广东工业大学机电工程学院
出处
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2019年第3期29-37,共9页
基金
国家自科学基金项目(51375097)
NSFC–广东省联合基金(U1801259)
文摘
研究紫外光辅助催化抛光6H-SiC单晶。用分光光度法定性检测不同光催化反应时间下甲基橙颜色变化和羟基自由基(·OH)浓度,研究无光照、光照抛光盘、光照抛光液3种光照方式及金刚石、碳化硅、二氧化硅、二氧化钛、硅溶胶5种磨料对6H-SiC单晶抛光的影响。结果表明:随着光照时间增加,·OH浓度增加;在3种光照方式下,不同磨料的材料去除率(MRR)均呈现光照抛光液>光照抛光盘>无光照的规律,且光照抛光液时的MRR比无光照时的MRR提升了18%~58%。随磨料硬度降低,光催化辅助作用对MRR的提高幅度升高,即紫外光催化辅助作用越明显;金刚石、碳化硅、二氧化硅、硅溶胶4种磨料抛光后的表面粗糙度都随MRR的增大而减小,但二氧化钛磨料的则相反,原因是二氧化钛磨料同时兼作光催化剂,增强了SiC表面的化学反应速率,使其化学反应速率大于机械去除速率。
关键词
紫外光催化辅助抛光
6H-SiC单晶
羟基自由基
光照方式
磨料
Keywords
UV-photocatalysis assisted polishing
6H-SiC single crystal
hydroxyl radical
light mode
abrasive
分类号
TG73 [金属学及工艺—刀具与模具]
TG58 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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职称材料
题名
磁场分布对多磨头磁流变抛光材料去除的影响
被引量:
3
2
作者
路家斌
宾水明
阎秋生
黄银黎
熊强
机构
广东工业大学机电工程学院
出处
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第4期20-26,共7页
基金
NSFC-广东省联合基金项目(U1801259)
国家自然科学基金项目(51375097).
文摘
为研究磁场分布对材料去除的影响,设计轴向充磁异向排布、轴向充磁同向排布、径向充磁异向排布、径向充磁同向排布4种磁铁充磁和排布方式,利用有限元软件Maxwell仿真不同磁场的磁力线分布及抛光轮表面的磁感应强度分布,并采用数字特斯拉计测量实际磁感应强度。对单晶硅基片进行定点抛光试验,检测抛光斑沿抛光轮轴向的去除轮廓及峰值点的表面形貌。仿真和实际磁感应强度检测结果表明,不同磁场分布方式对抛光区的磁场分布有很大影响,磁铁轴向充磁同向排布与径向充磁异向排布时,具有较高的磁场强度和较好的多磨头效果。定点抛光试验表明,采用轴向充磁同向排布与径向充磁异向排布这两种方式时,能实现多点加工,其中轴向充磁同向排布时加工效率较高;但采用径向充磁同向排布时,由于抛光区磁感应强度较低,磁流变微磨头无法对工件进行有效地抛光。峰值点表面形貌检测结果表明,采用不同磁场分布方式时,对工件表面均是以塑性去除方式去除。研究表明,通过优化磁铁充磁和排布方式,可实现多磨头磁流变抛光的加工原理。
关键词
多磨头
磁流变抛光
磁场分布
材料去除
磁感应强度
塑性去除
Keywords
multiple polishing heads
magnetorheological finishing
magnetic field distribution
material removal
magnetic field intensity
plastic removal
分类号
TG356.28 [金属学及工艺—金属压力加工]
TH117.1 [机械工程—机械设计及理论]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
6H-SiC单晶紫外光催化抛光中光照方式和磨料的影响
路家斌
熊强
阎秋生
王鑫
宾水明
《金刚石与磨料磨具工程》
CAS
北大核心
2019
4
下载PDF
职称材料
2
磁场分布对多磨头磁流变抛光材料去除的影响
路家斌
宾水明
阎秋生
黄银黎
熊强
《润滑与密封》
CAS
CSCD
北大核心
2020
3
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职称材料
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