反应溅射制备MoO_3薄膜及其光学和电致变色性能研究

本文采用磁控溅射方法,通过金属钼靶材在Ar+O2气氛中反应溅射制备了氧化钼薄膜。在制备样品过程中改变反应气氛O2的流量,保持其它参数不变,得到不同的氧化钼薄膜。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)方法对MoO3薄膜样品结构进行表征。XRD测试结果表明MoO3薄膜样品均为非晶结构。MoO3薄膜样品的光学性能和电致变色性能采用分光光度计进行测试研究。研究结果表明,当反应气氛O2/Ar流量比例为1:5时,所制备的样品具有较高的可见光透射率,可见光平均透射率为90%,并且电致变色性能较好,调色范围达到了66.94%。

反应溅射制备MoO_3薄膜及其电致变色响应时间研究

在Ar和O2气氛下采用直流反应溅射沉积了MoO3薄膜,样品制备过程中改变薄膜沉积气压,保持其它参数不变,研究了沉积气压对其电致变色性能的影响.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、傅里叶红外透射光谱(FTIR)对薄膜的结构进行了表征.采用分光光度计研究了MoO3薄膜的电致变色性能,通过电致变色动态测试对样品的电致变色循环稳定性能和响应时间进行了研究.研究结果表明,MoO3薄膜样品为非晶结构,当沉积气压为3 Pa时,MoO3薄膜样品具有较好的电致变色性能,其在可见光范围的平均调色范围为69%,着色时间为5s,漂白时间为27 s.

反应溅射制备NiO_x薄膜及其电致变色响应时间性能研究

在Ar和O2气氛下采用直流反应溅射制备了NiOx薄膜,利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱技术(XPS)对薄膜的晶体结构、Ni离子在不同化学态的结合能进行了表征。NiOx薄膜的扫描电子显微镜(SEM)照片表明薄膜有较好的晶体结构,晶粒尺寸为10 nm左右。NiOx薄膜中Ni元素是Ni2+和Ni3+混合价态,薄膜颜色为淡棕色,NiOx表现出阳极电致变色特征,其电致变色的行为是由于Li+和OH-在NiOx薄膜中的注入和拉出引起的Ni2+和Ni3+发生转化所致。通过电致变色动态测试对样品的电致变色性能和相应的响应时间进行了研究,讨论了沉积气压与NiOx薄膜的电致变色性能之间的关系。当沉积气压为3 Pa时,所制备的NiOx薄膜样品具有较好的电致变色性能,其在可见光范围的平均调色范围为47%,着色时间为9 s,漂白时间为1 s,具有较快的响应时间。