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磁控溅射氧化钛薄膜的电学特性研究
1
作者
李林
吴志明
+1 位作者
居勇锋
蒋亚东
《电子器件》
CAS
2011年第6期625-628,共4页
采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜。采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增...
采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜。采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增大。分析了TiOx薄膜的电阻温度系数(TCR)与溅射温度和氧分压的关系,薄膜的电阻率从0.01Ω.cm上升到2Ω.cm时,TCR值从-1.3%上升到-2.14%。同一温度制备的TiOx薄膜随着氧气流量的增大TCR增大;方阻值相同的TiOx薄膜,随着制备温度的提高其TCR增大。
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关键词
TiOx薄膜
霍尔效应
X射线光电子能谱
电阻温度系数
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职称材料
题名
磁控溅射氧化钛薄膜的电学特性研究
1
作者
李林
吴志明
居勇锋
蒋亚东
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《电子器件》
CAS
2011年第6期625-628,共4页
基金
国家自然科学基金项目(60736005)
文摘
采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜。采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增大。分析了TiOx薄膜的电阻温度系数(TCR)与溅射温度和氧分压的关系,薄膜的电阻率从0.01Ω.cm上升到2Ω.cm时,TCR值从-1.3%上升到-2.14%。同一温度制备的TiOx薄膜随着氧气流量的增大TCR增大;方阻值相同的TiOx薄膜,随着制备温度的提高其TCR增大。
关键词
TiOx薄膜
霍尔效应
X射线光电子能谱
电阻温度系数
Keywords
TiOx thin film
Hall effect
XPS
TCR
分类号
TN305.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射氧化钛薄膜的电学特性研究
李林
吴志明
居勇锋
蒋亚东
《电子器件》
CAS
2011
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