期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
磁控溅射氧化钛薄膜的电学特性研究
1
作者 李林 吴志明 +1 位作者 居勇锋 蒋亚东 《电子器件》 CAS 2011年第6期625-628,共4页
采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜。采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增... 采用直流磁控溅射法在K9玻璃上制备了不同溅射温度和氧气流量的氧化钛(TiOx)薄膜。采用XPS、霍尔效应测试仪对薄膜的组份、载流子浓度和迁移率进行了测试,发现随着溅射氧气流量的增大,薄膜中的氧元素比例增大,载流子浓度减小,迁移率增大。分析了TiOx薄膜的电阻温度系数(TCR)与溅射温度和氧分压的关系,薄膜的电阻率从0.01Ω.cm上升到2Ω.cm时,TCR值从-1.3%上升到-2.14%。同一温度制备的TiOx薄膜随着氧气流量的增大TCR增大;方阻值相同的TiOx薄膜,随着制备温度的提高其TCR增大。 展开更多
关键词 TiOx薄膜 霍尔效应 X射线光电子能谱 电阻温度系数
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部