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700keV高能离子注入机的靶室电源
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作者 居晶慧 《微细加工技术》 1989年第1期27-29,共3页
一、前言700keV高能离子注入机,其靶室设计采用了旋转靶结构。如图1所示,在旋转靶盘上均布着8个靶位,分别称为1号靶位、2号靶位、……依此类推至8号靶位。其中1~7号靶用来对靶片注入,8号靶上装有铜网,以便在调束过程中,通过观察窗和微... 一、前言700keV高能离子注入机,其靶室设计采用了旋转靶结构。如图1所示,在旋转靶盘上均布着8个靶位,分别称为1号靶位、2号靶位、……依此类推至8号靶位。其中1~7号靶用来对靶片注入,8号靶上装有铜网,以便在调束过程中,通过观察窗和微光电视系统,对离子束的束径大小、束对中情况、过扫程度进行定性分析。在换片过程中,步进电机的驱动轴,一端驱动靶盘,另一端驱动编码盘,位于编码盘两侧的光电定位装置,将靶位信息送入靶室电源进行处理,从而准确地控制靶位的变换。 展开更多
关键词 700KeV 离子注入机 靶室 电源
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离子注入机的计算机控制扫描系统
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作者 居晶慧 《微细加工技术》 1991年第3期16-21,共6页
本文讨论了影响常规静电扫描系统的均匀性的因素,并提出一种离子注入机的计算机控制扫描系统。
关键词 离子注入机 计算机控制 扫描系统
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离子注入机的束断系统
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作者 居晶慧 《微细加工技术》 1990年第1期23-25,共3页
从离子源引出的离子束,在沿着注入机的主光路系统运行到基片的过程中,要受到许多控制。本文所论述的束断系统,其作用是当基片上的注入剂量达到给定标准时,将离子束偏移到主光路系统之外。
关键词 离子注入机 束断系统
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