PLA—501F光刻机间隙设定单元故障分析

近年来,我国半导体器件行业大量引进了Canon公司生产的PLA—501F光刻机。由于该机具有高度的实用性和可靠性,故备受操作者喜爱。我所在86年引进了两台,从今年1至6月我对这两台光刻机的故障作了统计,列表如下: 从表中看出,该机的故障大部分发生在间隙设定单元。它占总故障的57.1％。而且有些故障是重复出现。因此,本文对该光刻机的心脏部件——GAP单元的故障作一系统分析,以供参考。 间隙设定的工作原理 图1为GAP单元结构简图。间隙设定程序如下: 1.上料。机器处于原始状态,硅片被机械手送至承片台上并被真空吸住。

KLA-221掩模缺陷自动检查系统

KLA-221系统用于掩模版缺陷的自动检查。本文着重对该机的工作原理、光学系统及自动调焦系统作了介绍。