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阻尼可调叶片减振器的研制与验证
被引量:
3
1
作者
崔恩康
韩承冷
邹俊逸
《科技与创新》
2019年第14期20-21,23,共3页
设计并制造了一种阻尼可调叶片减振器,建立了减振器的三维模型;基于流体力学理论建立了减振器的动力学模型;提出了通过改变电磁阀占空比调节减振器阻尼的方案,并得到了减振器的特性曲线;基于振动试验设备进行了台架试验。
关键词
叶片减振器
外置式电磁阀
阻尼调节
缝隙流量
下载PDF
职称材料
RIE工艺参数对4H-SiC刻蚀速率和表面粗糙度的影响
被引量:
1
2
作者
万泽洪
崔恩康
+3 位作者
于圣韬
雷宇
桂成群
周圣军
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2021年第19期326-335,共10页
基于4H-SiC材料的微机电系统(MEMS)器件(如压力传感器、微波功率半导体器件等)在制造过程中,需要利用干法刻蚀技术对4H-SiC材料进行微加工。增加刻蚀速率可以提高加工效率,但是调节刻蚀工艺参数在改变4H-SiC材料刻蚀速率的同时,也会对...
基于4H-SiC材料的微机电系统(MEMS)器件(如压力传感器、微波功率半导体器件等)在制造过程中,需要利用干法刻蚀技术对4H-SiC材料进行微加工。增加刻蚀速率可以提高加工效率,但是调节刻蚀工艺参数在改变4H-SiC材料刻蚀速率的同时,也会对刻蚀表面粗糙度产生影响,进而影响器件的性能。为了提高SiC材料的刻蚀速率并降低刻蚀表面粗糙度,满足4H-SiC MEMS器件研制的需求,本文通过优化光刻工艺参数(曝光模式、曝光时间、显影时间)获得了良好的光刻图形形貌,改善了刻蚀掩模的剥离效果。实验中采用SF_(6)和O_(2)作为刻蚀气体,镍作为刻蚀掩模,分析了4H-SiC反应离子刻蚀工艺参数(刻蚀气体含量、腔体压强、射频功率)对4H-SiC刻蚀速率和表面粗糙度的影响。实验结果表明,通过优化干法刻蚀工艺参数可以获得原子级平整的刻蚀表面。当SF_(6)的流量为330 mL/min,O_(2)流量为30 mL/min,腔体压强为4 Pa,射频功率为300 W时,4H-SiC材料的刻蚀速率可达到292.3 nm/min,表面均方根粗糙度为0.56 nm。采用优化的刻蚀工艺参数可以实现4H-SiC材料的高速率、高表面质量加工。
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关键词
材料
碳化硅
光刻
反应离子刻蚀
刻蚀速率
表面粗糙度
原文传递
题名
阻尼可调叶片减振器的研制与验证
被引量:
3
1
作者
崔恩康
韩承冷
邹俊逸
机构
武汉理工大学汽车工程学院
出处
《科技与创新》
2019年第14期20-21,23,共3页
文摘
设计并制造了一种阻尼可调叶片减振器,建立了减振器的三维模型;基于流体力学理论建立了减振器的动力学模型;提出了通过改变电磁阀占空比调节减振器阻尼的方案,并得到了减振器的特性曲线;基于振动试验设备进行了台架试验。
关键词
叶片减振器
外置式电磁阀
阻尼调节
缝隙流量
分类号
U463.33 [机械工程—车辆工程]
下载PDF
职称材料
题名
RIE工艺参数对4H-SiC刻蚀速率和表面粗糙度的影响
被引量:
1
2
作者
万泽洪
崔恩康
于圣韬
雷宇
桂成群
周圣军
机构
武汉大学工业科学研究院
武汉大学动力与机械学院
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2021年第19期326-335,共10页
基金
国家重点研发计划(2017YFB1104900)
国家自然科学基金(52075394,51675386,51775387)。
文摘
基于4H-SiC材料的微机电系统(MEMS)器件(如压力传感器、微波功率半导体器件等)在制造过程中,需要利用干法刻蚀技术对4H-SiC材料进行微加工。增加刻蚀速率可以提高加工效率,但是调节刻蚀工艺参数在改变4H-SiC材料刻蚀速率的同时,也会对刻蚀表面粗糙度产生影响,进而影响器件的性能。为了提高SiC材料的刻蚀速率并降低刻蚀表面粗糙度,满足4H-SiC MEMS器件研制的需求,本文通过优化光刻工艺参数(曝光模式、曝光时间、显影时间)获得了良好的光刻图形形貌,改善了刻蚀掩模的剥离效果。实验中采用SF_(6)和O_(2)作为刻蚀气体,镍作为刻蚀掩模,分析了4H-SiC反应离子刻蚀工艺参数(刻蚀气体含量、腔体压强、射频功率)对4H-SiC刻蚀速率和表面粗糙度的影响。实验结果表明,通过优化干法刻蚀工艺参数可以获得原子级平整的刻蚀表面。当SF_(6)的流量为330 mL/min,O_(2)流量为30 mL/min,腔体压强为4 Pa,射频功率为300 W时,4H-SiC材料的刻蚀速率可达到292.3 nm/min,表面均方根粗糙度为0.56 nm。采用优化的刻蚀工艺参数可以实现4H-SiC材料的高速率、高表面质量加工。
关键词
材料
碳化硅
光刻
反应离子刻蚀
刻蚀速率
表面粗糙度
Keywords
materials
silicon carbide
lithography
reactive ion etching
etching rate
surface roughness
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
阻尼可调叶片减振器的研制与验证
崔恩康
韩承冷
邹俊逸
《科技与创新》
2019
3
下载PDF
职称材料
2
RIE工艺参数对4H-SiC刻蚀速率和表面粗糙度的影响
万泽洪
崔恩康
于圣韬
雷宇
桂成群
周圣军
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2021
1
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