在Ag基体上用MOCVD法连续制备YBCO超导带

用ＭＯＣＶＤ法在Ａｇ基体上以～１５ｃｍ／ｈ的带速连续制备ＹＢＣＯ超导带．在８００—８５０℃之间沉积的样品均呈强烈ｃ－轴取向；而在７５０－８００℃间，ｃ－轴取向明显减弱．前者为不规则排列的大片状晶结构，而后者为不规则排列的小棒状晶和发育不良的片状晶，或者为小粒状晶堆集．所制样品的Ｊｃ（７８Ｋ，０Ｔ）一般在０．５—１×１０４Ａ／ｃｍ２之间，最好的达到１．４×１０４Ａ／ｃｍ２．

CVD动态沉积法连续制备YBCO超导带

本文报道了用CVD动态沉积法连续制备YBCO超导带的实验结果。以Y(TMHD)_3、Ba(TMHD)_2、Cu(TMHD)_2为挥发源,高纯Ar和O_2分别为载流和反应气体,在移动的金属Ag基带上,以10—15cm/h的带速制出了有强烈C—轴取向的YBCO超导带。最好样品的Jc达到1.4×10~4A/cm^2(78K,OT)。

(YBa_2Cu_3O_(7-y))_(1-x)Ag_x体材料的超导性质

本文从混合硝酸盐水溶液出发制备Y、Ba、Cu氧化物粉体。在通氧、960℃×61小时烧结和550℃×45—60小时退火的条件下,大截面块状样品的临界电流(Ic)随加1-2wt%Ag_2O迅速升高,出现一极大值,然后随增加Ag_2O量至10wt%而显著下降。加入1.2—1.5wt%Ag_2O的小截面样品的临界电浇密度(Jc)达到1457安/厘米~2(78K、零场、判据1微伏/厘米)。对加入少量Ag_2O提高YBCO体材料Jc的问题作了讨论。

动态MOCVD连续制备YBCO／Ag超导带的微观结构

该文对用动态ＭＯＣＶＤ工艺所制膜厚分别为１．０μｍ和３．５μｍＪｃ值分别为５．５×１０３Ａ／ｃｍ２和２．１×１０３Ａ／ｃｍ２（７８Ｋ，０Ｔ）的两个ＹＢＣＯ／Ａｇ超导带样品，以ＥＤＸ、ＸＲＤ和ＳＥＭ对其沉积层表面的成分与结构作了分析和研究，对后者还以ＳＥＭ和ＥＤＸ对其断面成分进行了分析。以ＸＲＤ和ＳＥＭ分析观察了经过与前者相同的热处理的Ａｇ基带的表面状况。由上述分析结果综合讨论了基体的表面状况、反应器构造对样品沉积层微观结构、载流能力的影响以及相关的工艺改进问题。

用简易拉丝—轧带工艺制取TBSCCO/Ag复合带长样的研究

该文报导了用简易拉丝——轧带工艺制取TBSCCO/Ag复合带长样的研究结果,着重研究了轧制过程中道次变形量对TBSCCO/Ag超导带Jc的影响.增大道次变形量有利于Jc值的提高。采用一道次变形量70～80％,轧制2m长的TBSCCO/Ag复合带,经830℃热处理后,该长样的Jc值达到8200A/cm^2(78K,oT)

Tl-1223超导体及其复Ag带

研究了用部分熔化法制备T1-1223超导体的工艺,样品的名义组成为(Tl_0.5Pb_0.5)(Sr_0.8Ba_0.2)_2Ca_2Cu_3O_y,调整样品中Ba的含量,出现了织构的迹象,经烧结一部分熔化—退火的样品,其磁化电流在77K和1T下大于2×10~4A/cm^2,用这样的样品作原料所制备的Tl-1223复Ag带短样,在77K和0T下,J_c达2.1×10~4A/cm^2,超导带横断面的SEM显微观察表明,在1223相中夹杂了BaPbO_3和Sr-Ca-Cu-O相。