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Si/SiGe/SiHBT直流特性的可靠性
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作者 崔福现 张万荣 《微纳电子技术》 CAS 2003年第10期17-19,共3页
对单台面SiGeHBT在E-B结反偏应力下直流特性的可靠性进行了研究。研究结果表明,随应力时间的增加,开启电压增加,直流电流增益下降,特别是在低E-B正偏电压时下降明显;而交流电流增益退化缓慢。
关键词 异质结双极晶体管 HBT 直流特性 可靠性 SI/SIGE/SI 硅锗 增益
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Si/SiGe/Si双异质结晶体管(HBT)的负阻特性 被引量:4
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作者 张万荣 李志国 +7 位作者 王立新 汪东 崔福现 孙英华 程尧海 陈建新 沈光地 罗晋生 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1132-1134,共3页
同质结硅双极晶体管在共射极状态下工作中 ,在高集电极———发射极电压、大电流下 ,由于热电正反馈 ,容易发生热击穿 ,这限制了晶体管的安全工作区域。本文报道了在大电流下 ,由于热电负反馈 ,重掺杂基区Si/SiGe/HBT出现了负阻特性 ,... 同质结硅双极晶体管在共射极状态下工作中 ,在高集电极———发射极电压、大电流下 ,由于热电正反馈 ,容易发生热击穿 ,这限制了晶体管的安全工作区域。本文报道了在大电流下 ,由于热电负反馈 ,重掺杂基区Si/SiGe/HBT出现了负阻特性 ,并对这一现象进行了新的解释 ,认为这是由于大电流下耗散功率增加 ,基区俄歇复合导致电流增益随温度增加而减小的结果 .这一现象有利于改善大电流下双极晶体管的抗烧毁能力 。 展开更多
关键词 异质结双极晶体管 负阻特性 输出特性
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CMOS模拟开关中的闭锁现象及消除方法
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作者 崔福现 白淑华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期28-32,共5页
本 文描述了CMOS集成电路中的闭锁现象的机理,分析了寄生PnPn可控硅的触发条件.提出了防止CMOS模拟开关电路闭锁的措施,以及本电路的版图设计和工艺设计的原则,从而实现消除闭锁现象的目的.最后介绍了研制中的CMOS模拟开关的抗闭锁性能... 本 文描述了CMOS集成电路中的闭锁现象的机理,分析了寄生PnPn可控硅的触发条件.提出了防止CMOS模拟开关电路闭锁的措施,以及本电路的版图设计和工艺设计的原则,从而实现消除闭锁现象的目的.最后介绍了研制中的CMOS模拟开关的抗闭锁性能和电路性能. 展开更多
关键词 CMOS 模拟开关 闭锁现象 消除
全文增补中
DEEMO——一种新的微结构制造技术
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作者 崔福现 《半导体情报》 1997年第2期60-64,共5页
干法腐蚀的最新进展使其成为微铸模制造中有发展前途的工艺技术。就像DEEMO工艺展示的那样,高深宽比、方向自由度、低不平度、高腐蚀速率以及对掩模材料的高选择比,使多用的微铸模制作工艺能进一步电镀和模压。DEEMO是英文... 干法腐蚀的最新进展使其成为微铸模制造中有发展前途的工艺技术。就像DEEMO工艺展示的那样,高深宽比、方向自由度、低不平度、高腐蚀速率以及对掩模材料的高选择比,使多用的微铸模制作工艺能进一步电镀和模压。DEEMO是英文缩写,含意是干法腐蚀(DryEtching)、电镀(Electroplating)和铸模(MOulding)。 展开更多
关键词 干法腐蚀 微结构制造技术 DEEMO
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自对准双极晶体管中的低频噪声
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作者 P. F. Lu 崔福现 《半导体情报》 1989年第4期42-46,共5页
报导了用多晶硅做发射极的自对准n-p-n双极晶体管的低频噪声的初步研究情况。其中一些管子显示出一般扩散结晶体管中观察到的1/f规律不同的过量噪声谱。并且发现噪声谱形成S(f)随样品而异。例如,我们在同一芯片上的两个相邻的管子上... 报导了用多晶硅做发射极的自对准n-p-n双极晶体管的低频噪声的初步研究情况。其中一些管子显示出一般扩散结晶体管中观察到的1/f规律不同的过量噪声谱。并且发现噪声谱形成S(f)随样品而异。例如,我们在同一芯片上的两个相邻的管子上,就观察到两种不同的形式S(f)-1/f和S(f)-1[1|(f/f0)^2]。我们认为,后者是由于在多晶硅-单晶硅界面处的氧化层势垒中载流于俘获造成的。其不均匀性可以说明噪声谱变化范围很宽的原因。 展开更多
关键词 自对准双极晶体管 低频噪声 多晶硅
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